国务院公报2001·17 rI·1009国务院文件 人。布图设计登记电请人对国务院知识产故进利阀 越保联中华人民共和国国务院令 部门依法认定揭 第二十条布图特群时湖用姐内膜 文行政部门可以给子使用其布 火达《集成电路布图设计保护条例》已经2001年3月28日国务院第36次常务会议通过，现予公布， 自2001年10月1日起施行。宜享腔助其誉效 #食十好二〇年四月二日 对其内容有饰 范国甲精业 集成电路布图设计保护条例 染外美用 财美容装园 有该布图设计的集成电路的行为5登来 第一章总 则 （五）商业利用，是指为商业目的进口、销 交第一条为了保护集成电路布图设计专有 售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有 权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的 该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物 发展，制定本条例。新健要的书国国设升专 合第二条本条例下列用语的含义：（三） 第三条中国自然人、法人或者其他组织创 （一）集成电路，是指半导体集成电路，即 作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有 以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件 权。人精自好国市的大自由用 的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入 基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的 商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。 中间产品或者最终产品；纯日达银味业商大 外国人创作的布图设计，其创作者所属国同 （二）集成电路布图设计（以下简称布图设 中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同 计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的 参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例 两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配 享有布图设计专有权。始升委受录一十业 置或者为制造集成电路而准备的上述三维配 宝第四条受保护的布图设计应当具有独创 性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成 联息（三）布图设计权利人，是指依照本条例的 果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作 规定，对布图设计享有专有权的自然人法人或 者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。年 者其他组织；的月价代纸周隆她售因回 受保护的由常规设计组成的布图设计，其组 搁（四）复制，是指重复制作布图设计或者含 合作为整体应当符合前款规定的条件。最 DFJ00C国务院文件 国务院公报2001·17 图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条 第五条本条例对布图设计的保护，不延及 思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。 例保护。 第六条国务院知识产权行政部门依照本条 第十三条布图设计专有权属于自然人的， 该自然人死亡后，其专有权在本条例规定的保护 例的规定，负责布图设计专有权的有关管理工 作。 期内依照继承法的规定转移。 布图设计专有权属于法人或者其他组织的， 号008 andOns 第二章布图设计专有权 法人或者其他组织变更、终止后，其专有权在本 （一）对受保护的布图设计的全部或者其中 或者其他组织享有；没有承继其权利、义务的法 任何具有独创性的部分进行复制； 人或者其他组织的，该布图设计进入公有领域。 （二）将受保护的布图设计、含有该布图设 第三章布图设计的登记 计的集成电路或者含有该集成电路的物品投人商 第十四条国务院知识产权行政部门负责布 业利用。 图设计登记工作，受理布图设计登记申请。 第八条布图设计专有权经国务院知识产权 第十五条申请登记的布图设计涉及国家安 行政部门登记产生。 全或者重大利益，需要保密的，按照国家有关规 未经登记的布图设计不受本条例保护。官 静第九条目布图设计专有权属于布图设计创作 定办理。 #第十六条申请布图设计登记，应当提交： 者，本条例另有规定的除外。左式谢其如普如誉 nd本（）布图设计登记申请表，电集嫂， 的由法人或者其他组织主持，依据法人或者其 （二）布图设计的复制件或者图样；，然 他组织的意志而创作，并由法人或者其他组织承 （三）布图设计已投人商业利用的，提交含 担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作 有该布图设计的集成电路样品；中嫩 科示（四）国务院知识产权行政部门规定的其他 由自然人创作的布图设计，该自然人是创作 对第十条 两个以上自然人法人或者其他组 第十七条某布图设计自其在世界任何地方首 织合作创作的布图设计，其专有权的归属由合作 次商业利用之日起2年内品未向国务院知识产权 者约定中未作约定或者约定不明的，其专有权由 行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政 部门不再予以登记。至中业 合作者共同享有。试国彩好觉图求美育时会 第十八条布图设计登记申请经初步审查， 第十一条，受委托创作的布图设计，其专有 未发现驳回理由的，由国务院知识产权行政部门 权的归属由委托人和受托人双方约定；未作约定 或者约定不明的，其专有权由受托人享有。， 予以登记，发给登记证明文件，并予以公告。 养第十二条布图设计专有权的保护期为10 第十九条布图设计登记申请人对国务院知 年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地 识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的， 方首次投人商业利用之日起计算由以较前日期为 可以自收到通知之日起3个月内，向国务院知识 产权行政部门请求复审。国务院知识产权行政部 准。但是，无论是否登记或者投人商业利用，外布 6