(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123366285.5 (22)申请日 2021.12.2 9 (73)专利权人 科莱思半导体智造 （浙江） 有限公 司 地址 314100 浙江省嘉兴 市嘉善县罗星街 道世纪大道3088号6号楼6103室(住所 申报) (72)发明人 姚一忠　 (74)专利代理 机构 浙江永航联科专利代理有限 公司 33304 专利代理师 樊岑遥 (51)Int.Cl. B08B 1/02(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种硅棒清洗设备 (57)摘要 本实用新型涉及硅棒清洗领域， 尤其涉及到 一种硅棒清洗设备， 包括： 清洗腔， 清洗腔的两侧 分别设置有进料口和出料口， 所述清洗腔内还设 置有喷水口和清洗液出口； 支撑辊， 两个所述支 撑辊转动设置在所述清洗腔内， 且两个所述支撑 辊平行设置， 俩个所述支撑辊的转动方向一致； 刷洗辊， 所述清洗腔内还转动设置有刷洗辊， 所 述刷洗辊表面上均匀设置有若干毛刷； 缓冲辊， 所述缓冲辊转动设置在所述清洗腔内， 且所述缓 冲辊的表 面上包覆有吸水材料。 本实用新型可以 自动上料， 提升了工作效率， 并且本实用新型的 清洗液会喷到缓冲辊上的吸水材料处， 以避免清 洗液飞溅， 影响清洗效果。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 217250882 U 2022.08.23 CN 217250882 U 1.一种硅棒清洗设备， 其特 征在于， 包括： 清洗腔(10)， 所述清洗腔(10)的两侧分别设置有进料口(101)和 出料口(102)， 所述清 洗腔(10)内还设置有喷水口(10 3)和清洗液 出口(104)； 支撑辊(20)， 两个所述支撑辊(20)转动设置在所述清洗腔(10)内， 且两个所述支撑辊 (20)平行设置， 两个所述支撑辊(20)的转动方向一 致； 刷洗辊(30)， 所述清洗腔(10)内还转动设置有刷洗辊(30)， 所述刷洗辊(30)表面上均 匀设置有 若干毛刷； 缓冲辊(40)， 所述缓冲辊(40)转动设置在所述清洗腔(10)内， 且所述缓冲辊(40)的表 面上包覆有吸水 材料。 2.根据权利要求1所述的一种硅棒清洗设备， 其特征在于： 所述喷水口(103)的位置位 于所述清洗腔(10)顶部， 所述清洗液 出口(104)的位置与所述缓冲辊(40)的位置对应。 3.根据权利要求2所述的一种硅棒清洗设备， 其特征在于： 所述进料口(101)的外侧设 置有上料机构(50)， 所述上料机构(50)包括 “V”形的承托板(501)， 所述承托板(501)上滑动 设置有推动板(5 02)。 4.根据权利要求3所述的一种硅棒清洗设备， 其特征在于： 所述上料机构(50)可上下移 动。 5.根据权利要求4所述的一种硅棒清洗设备， 其特征在于： 所述上料机构(50)的一侧还 设置有传送带(60)， 所述传送带(60)的高度高于所述上料机构(50)， 所述传送带(60)上还 均匀设置有 若干限位隔板(6 01)。 6.根据权利要求5所述的一种硅棒清洗设备， 其特征在于： 所述上料机构(50)靠近所述 传送带(6 0)的一侧设置有缓冲板(5 03)， 所述缓冲板(5 03)为倾斜设置。 7.根据权利要求6所述的一种硅棒清洗设备， 其特征在于： 所述出料口(102)的外侧设 置有“V”形的暂存板(70)。 8.根据权利要求7所述的一种硅棒清洗设备， 其特征在于： 所述清洗腔(10)的底部为倾 斜设置， 且所述清洗腔(10)的侧壁上设置有出 水口(105)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217250882 U 2一种硅棒清洗设 备 技术领域 [0001]本实用新型 涉及硅棒清洗领域， 尤其涉及到一种硅棒清洗设备。 背景技术 [0002]单晶硅棒是通过区熔或直拉工艺在炉膛中整形或提拉形成的硅单晶体棒。 硅棒在 加工后， 表面沾有硅泥， 不仅搬运过程中影响工作环境， 也对后续加工工艺产生影响， 因此 在出料前需要进行表面清洗 。 [0003]硅棒清洗 的方式有毛刷刷洗、 超声波清洗等， 但是现有的清洗设备往往需要人工 上下料； 而毛刷刷洗时， 由于 硅棒的旋转， 会使得清洗液飞溅。 [0004]因此， 我们有必要对这样一种结构进行改善， 以克服上述 缺陷。 实用新型内容 [0005]本实用新型的目的在于克服现有技术的不足， 提供了一种硅棒清洗设备， 本实用 新型是通过以下技 术方案实现的： [0006]一种硅棒清洗设备， 包括： 清洗腔， 所述清洗腔的两侧分别设置有进料口和出料 口， 所述清洗腔内还设置有喷水口和清洗液出口； 支撑 辊， 两个所述支撑 辊转动设置在所述 清洗腔内， 且两个所述支撑辊平行设置， 零个所述支撑辊的转动方向一致； 刷洗辊， 所述清 洗腔内还转动设置有刷洗 辊， 所述刷洗辊表面上均匀设置有若干毛刷； 缓冲辊， 所述缓冲辊 转动设置在所述清洗腔内， 且所述缓冲辊的表面上包覆有吸水 材料。 [0007]上述技术方案中： 清洗腔作为清洗的主要空间， 以避免水花飞溅； 进料口和出料口 分别用于进料和出料， 喷水 口用于喷出水流进行清洗， 清洗液用于喷出清洗液以提升清洗 效果； 两个支撑辊用于定位硅棒的位置， 同时也起到带动硅棒转动的效果； 刷洗辊及 毛刷用 于刷洗硅棒上的杂物； 缓冲辊与吸水 材料用于将清洗液均匀涂布至 硅棒上。 [0008]本实用新型的进一步设置： 所述喷水口的位置位于所述清洗腔顶部， 所述清洗液 出口的位置与所述缓冲辊的位置对应。 [0009]上述技术方案中： 喷水口的位置位于清洗腔顶部是为了能充分的对硅棒进行清 洗， 且水压不需要很大， 避免水花 飞溅； 清洗液的出口与所述缓冲辊的位置对应是为了便于 吸水材料吸附清洗液。 [0010]本实用新型的进一步设置： 所述进料口的外侧 设置有上料机构， 所述上料机构包 括“V”形的承托板， 所述承托板上滑动设置有推动板 。 [0011]上述技术方案中： 承托板为 “V”形是为了便于对硅棒定位， 推动板用于将硅棒推向 清洗腔内。 [0012]本实用新型的进一 步设置： 所述上 料机构可 上下移动。 [0013]上述技术方案中： 上料机构可上下移动， 以便于适应不同直径的硅棒， 令硅棒在承 托板上时的高度高于 硅棒在两个支撑辊 之间的高度。 [0014]本实用新型的进一步设置： 所述上料机构的一侧还设置有传送带， 所述传送带的说　明　书 1/4 页 3 CN 217250882 U 3