(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123376406.4 (22)申请日 2021.12.2 9 (73)专利权人 至微半导体 （上海） 有限公司 地址 200241 上海市闵行区紫海路170号1 幢3层03室 (72)发明人 陈新来　邓信甫　唐宝国　卢证凯　 (74)专利代理 机构 上海申新 律师事务所 31272 专利代理师 竺路玲 (51)Int.Cl. B08B 13/00(2006.01) B08B 3/02(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种晶圆清洗设备 (57)摘要 本实用新型公开了一种晶圆清洗设备， 包 括： 旋转机构； 承载台， 承载台设置于旋转机构 上， 承载台上可操作地放置有一晶圆片； 上吹气 环， 上吹气环设置于承载台的上表面， 上吹气环 的外缘开设有若干第一吹气孔； 下吹气环， 下吹 气环设置于承 载台的下表面， 下吹气环的外缘开 设有若干第二吹气孔； 清洗腔， 清洗腔套设于承 载台的外侧； 清洗装置， 清洗装置的输出端设置 于承载台的上方， 清洗装置的输出端正对晶圆片 的上表面设置。 通过对本实用新型的应用， 通过 上吹气环保证了晶圆的下表面的边缘处进行吹 气从而防止化学清洗液溅入或在该处结晶堆积， 同时通过下吹气环保证了承载台的下表面不被 化学清洗液沾污， 从而降低了设备的清理难度， 提高了晶圆的清洗质量。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 217121195 U 2022.08.05 CN 217121195 U 1.一种晶圆清洗设备， 其特 征在于， 包括： 旋转机构； 承载台， 所述承载台设置于所述旋转机构上， 所述旋转机构用于驱动所述承载台的转 动， 所述承载台上 可操作地 放置有一晶圆片； 上吹气环， 所述上吹气环设置于所述承载台的上表面， 所述上吹气环的外缘开设有若 干第一吹气孔； 下吹气环， 所述下吹气环设置于所述承载台的下表面， 所述下吹气环的外缘开设有若 干第二吹气孔； 清洗腔， 所述清洗腔套设于所述承载台的外侧； 清洗装置， 所述清洗装置的输出端设置于所述承载台的上方， 所述清洗装置的输出端 正对所述晶圆片的上表面设置 。 2.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 还包括： 供气装置， 所述上 吹气环 和所述下吹气环均通过管路与所述供气装置连接， 所述供气装置用于向所述上吹气环和所 述下吹气环通入气体。 3.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述上吹气环呈环形结构设置， 若干所述第一吹气孔沿所述上吹气环的外缘均匀设置 。 4.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 每一所述第 一吹气孔的轴线均向 上倾斜设置。 5.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述下吹气环城环形结构设置， 若干所述第二吹气孔沿所述下吹气环的外缘均匀设置 。 6.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 每一所述第 二吹气孔的轴线均向 上倾斜设置。 7.根据权利要求2所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 还包括： 升降机构， 所述升降机构 与所述清洗腔的底部连接， 所述升降机构用于驱动所述清洗腔的升降。 8.根据权利要求7所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述清洗腔的底部开设有一通 口， 所述旋转机构穿过 所述通口设置 。 9.根据权利要求2所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 旋转机构的中部设置有一通道， 所述供气装置设置于所述旋转机构的下部， 所述供气装置的输出端与一送气管连接， 所述 送气管设置 于所述通道内， 所述上吹气环和所述下吹气环分别与所述送气管的上部连接 。 10.根据权利要求9所述的晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述送气管的上端贯穿所述承 载台设置 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217121195 U 2一种晶圆清洗设 备 技术领域 [0001]本实用新型 涉及晶圆清洗技 术领域， 尤其涉及一种晶圆清洗设备。 背景技术 [0002]目前， 对晶圆的表面进行的清洗作业往往采用湿法清洗工艺， 而这种湿法清洗工 艺往往需要配合使用多种化学清洗液对晶圆的表面进行喷淋， 同时， 在行业内为了使得化 学清洗液在晶圆的表 面喷洒均匀， 往往采用驱动晶圆做旋转的方式以使得清洗液在晶圆的 表面进行扩散。 然而， 在实际清洗的过程中所使用的化学清洗液， 部 分清洗液很容易在晶圆 的边缘处结晶并堆积， 极大地影响了晶圆的清洗质量。 实用新型内容 [0003]有鉴于此， 为解决上述问题， 本实用新型的目的在于提供一种晶圆清洗设备， 包 括： [0004]旋转机构； [0005]承载台， 所述承载台设置于所述旋转机构上， 所述旋转机构用于驱动所述承载台 的转动， 所述承载台上 可操作地 放置有一晶圆片； [0006]上吹气环， 所述上吹气环设置于所述承载台的上表面， 所述上吹气环的外缘开设 有若干第一吹气孔； [0007]下吹气环， 所述下吹气环设置于所述承载台的下表面， 所述下吹气环的外缘开设 有若干第二吹气孔； [0008]清洗腔， 所述清洗腔套设于所述承载台的外侧； [0009]清洗装置， 所述清洗装置 的输出端设置于所述承载台的上方， 所述清洗装置 的输 出端正对所述晶圆片的上表面设置 。 [0010]在另一个优选的实施例中， 还包括： 供气装置， 所述上吹气环和所述下吹气环均通 过管路与所述供气装置连接， 所述供气装置用于向所述上吹气环和所述下吹气环通入气 体。 [0011]在另一个优选 的实施例中， 所述上吹气环呈环形结构设置， 若干所述第一吹气孔 沿所述上吹气环的外缘均匀设置 。 [0012]在另一个优选的实施例中， 每一所述第一吹气孔的轴线均向上倾 斜设置。 [0013]在另一个优选 的实施例中， 所述下吹气环城环形结构设置， 若干所述第二吹气孔 沿所述下吹气环的外缘均匀设置 。 [0014]在另一个优选的实施例中， 每一所述第二吹气孔的轴线均向上倾 斜设置。 [0015]在另一个优选的实施例中， 还包括： 升降机构， 所述升降机构与所述清洗腔的底部 连接， 所述升降机构用于驱动所述清洗腔的升降。 [0016]在另一个优选 的实施例中， 所述清洗腔的底部开设有一通口， 所述旋转机构穿过 所述通口设置 。说　明　书 1/3 页 3 CN 217121195 U 3