(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202122993522.4 (22)申请日 2021.12.01 (73)专利权人 济宁九德半导体科技有限公司 地址 272000 山东省济宁市泗水县经济开 发区泉济路与圣诚路交汇处向南5 0米 (72)发明人 蔡亮　石坚　刘建勋　 (74)专利代理 机构 青岛双合知识产权代理事务 所(普通合伙) 37342 代理人 王先懂 (51)Int.Cl. B08B 1/00(2006.01) B08B 15/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种硅片清洗装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种硅片清洗装置， 包括 硅片清洗装置主体， 所述硅片清洗装置主体内开 设有清洗仓， 所述硅片清洗装置主体外壁设置有 控制面板， 所述硅片清洗装置主体外壁设置有排 气口， 所述排气 口内连接有遮挡风扇， 所述排气 口上设置有与遮挡风扇连接的驱动组件， 所述遮 挡风扇固定连接在转轴上， 所述控制面板外壁设 置有防护组件； 通过设置的驱动组件， 其中驱动 组件包括辅助板、 滑轨、 活动杆、 螺纹槽、 螺纹杆 和转轴， 螺纹杆在滑轨内从下到上滑动是带动遮 挡风扇打开， 并且螺纹杆与辅助板外壁拧紧固定 后， 遮挡风扇不会轻易松动。 权利要求书1页 说明书4页 附图6页 CN 216369082 U 2022.04.26 CN 216369082 U 1.一种硅片清洗装置， 包括硅片清洗装置主体(1)， 其特征在于： 所述硅片清洗装置主 体(1)内开设有清洗仓(2)， 所述硅片清洗装置主体(1)外壁设置有控制面板(3)， 所述硅片 清洗装置主体(1)外壁设置有排气口(4)， 所述排气口(4)内连接有遮挡风扇(5)， 所述排气 口(4)上设置有与遮挡风扇(5)连接的驱动组件(6)， 所述驱动组件(6)包括固定在排气 口 (4)外壁上的辅助板(61)、 开设在辅助板(61)内壁的滑轨(62)、 一端与辅助板(61)转动连接 且另一端贯穿排气口(4)内壁与排气口(4)外壁转动连接的转轴(66)、 与转轴(66)下端外壁 固定的活动杆(63)、 开设在活动杆(63)内壁的螺纹槽(64)和与螺纹槽(64)转动连接且贯穿 滑轨(62)的螺纹杆(65)， 所述遮挡风扇(5)固定连接在转轴(66)上， 所述控制面板(3)外壁 设置有防护组件(7)。 2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置， 其特征在于： 所述防护组件(7)包括对称 开设在控制面板(3)上下两端硅片清洗装置主体(1)外壁上的两组滑槽(71)、 与滑槽(71)滑 动连接的两组滑块(72)、 固定在两组滑块(72)外壁上的防护板(73)、 固定在防护板(73)外 壁上的握把(74)和胶粘在防护板(73)内壁上的清洁垫(75)。 3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置， 其特征在于： 所述滑轨(62)的形状设置为 四分之一圆弧状。 4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置， 其特征在于： 所述螺纹杆(65)的外壁设置 有防滑纹路。 5.根据权利要求2所述的一种硅片清洗装置， 其特征在于： 所述滑槽(71)的长度设置大 于控制面板(3)的长度大小， 所述滑槽(71)与滑块(72)之间设置有阻尼性。 6.根据权利要求2所述的一种硅片清洗装置， 其特征在于： 所述握把(74)固定在防护板 (73)外壁的中间位置处， 所述握把(74)表面 开设有纹路。 7.根据权利要求2所述的一种硅片清洗装置， 其特征在于： 所述清洁垫(75)内壁与控制 面板(3)外壁处于同一平面上。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216369082 U 2一种硅片清洗装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及硅片清洗技 术领域， 特别是 涉及一种硅片清洗装置 。 背景技术 [0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗， 微量污染也会导致器件失效， 清洗 的目的 在于清除表面污染杂质， 包括有机物和无机物， 这些杂质有的以原子状态或离子状态， 有的 以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面， 会导致各种缺陷， 清除污染的方法有物理清洗和 化学清洗 两种。 [0003]但是现有的硅片清洗装置仍存在一些弊端， 传统的硅片清洗装置设置排气口将难 闻气体排出， 通常设置有封闭面板进行开启和封闭， 传统的启动机构是通过转动转轴直接 旋转行刺闭合和开启， 但是牢固性不高， 而且无法得知 往哪边旋转是开启， 往哪边旋转是关 闭， 工作人员操作不够便捷， 为此我们提出一种硅片清洗装置 。 实用新型内容 [0004]为了克服现有技术的不足， 本实用新型提供一种硅片清洗装置， 通过设置 的驱动 组件， 其中驱动组件包括辅助板、 滑轨、 活动杆、 螺纹槽、 螺纹杆和转轴， 螺纹杆在滑轨内从 下到上滑动是带动遮挡风扇打开， 并且螺纹杆与辅助板外壁拧紧固定后， 遮挡风扇不会轻 易松动。 [0005]为解决上述技术问题， 本实用新型提供如下技术方案： 一种硅片清洗装置， 包括硅 片清洗装置主体， 所述硅片清洗装置主体内开设有清洗仓， 所述硅片清洗装置主体外壁设 置有控制面板， 所述硅片清洗装置主体外壁设置有排气口， 所述排气口内连接有遮挡风扇， 所述排气口上设置有与遮挡风扇连接的驱动组件， 所述驱动组件包括固定在排气口外壁上 的辅助板、 开设在辅助板内壁的滑轨、 一端与辅助板转动连接且另一端贯穿排气口内壁与 排气口外壁转动连接的转轴、 与转轴 下端外壁固定的活动杆、 开设在活动杆内壁的螺纹槽 和与螺纹槽转动连接且贯穿滑轨的螺纹杆， 所述遮挡风扇固定连接在转轴 上， 所述控制面 板外壁设置有防护组件。 [0006]作为本实用新型的一种优选技术方案， 所述防护组件包括对称开设在控制面板上 下两端硅片清洗装置主体外壁上 的两组滑槽、 与滑槽滑动连接的两组滑块、 固定在两组滑 块外壁上的防护板、 固定在防护板 外壁上的握把和胶粘在防护板内壁上的清洁垫 。 [0007]作为本实用新型的一种优选技 术方案， 所述滑轨的形状设置为四分之一圆弧状。 [0008]作为本实用新型的一种优选技 术方案， 所述螺纹杆的外壁设置有防滑纹路。 [0009]作为本实用新型的一种优选技术方案， 所述滑槽的长度设置大于控制面板的长度 大小， 所述滑槽与滑块之间设置有阻尼性。 [0010]作为本实用新型的一种优选技术方案， 所述握把固定在防护板外壁的中间位置 处， 所述握把表面 开设有纹路。 [0011]作为本实用新型的一种优选技术方案， 所述清洁垫内壁与 控制面板外壁处于同一说　明　书 1/4 页 3 CN 216369082 U 3