(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210472434.6 (22)申请日 2022.04.29 (71)申请人 宁波江丰电子材 料股份有限公司 地址 315400 浙江省宁波市余 姚市经济开 发区名邦科技工业园区安 山路 (72)发明人 姚力军　潘杰　王学泽　边逸军　 王锦　 (74)专利代理 机构 北京远智汇知识产权代理有 限公司 1 1659 专利代理师 韩承志 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 1/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种钛靶材清洁的方法 (57)摘要 本发明提供了一种钛靶 材清洁的方法， 所述 方法包括以下步骤： 钛靶材依次经过刷洗、 二次 清洁和三次清洁， 再进行干燥， 得到洁净的钛靶 材； 所述钛靶材具有特殊的侧面滚花结构， 所述 方法采用刷洗、 超声酸洗、 冲洗和干燥， 并优选酸 种类和配比 ， 取得较好的清洗效果 ， 使得 Particle次数显著降低， 以简便的工序和价廉的 原料完成清洁， 提升 了总工艺中产品的合格率。 权利要求书1页 说明书6页 附图1页 CN 114887963 A 2022.08.12 CN 114887963 A 1.一种钛靶材清洁的方法， 其特 征在于， 所述方法包括以下步骤： 钛靶材依次经 过刷洗、 二次清洁和三次清洁， 再进行干燥， 得到洁净的钛靶材。 2.根据权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述 钛靶材包括经 过侧面滚花的钛靶材。 3.根据权利要求1或2所述的方法， 其特 征在于， 所述刷洗的工具包括塑料刷； 优选地， 所述刷洗的时间为2 ‑8min。 4.根据权利要求1 ‑3任一项所述的方法， 其特征在于， 所述二次清洁的方式包括将钛靶 材置于酸性溶液中进行一段超声处 理。 5.根据权利要求 4所述的方法， 其特 征在于， 所述 酸性溶液中包括氢氟酸、 硝酸和水； 优选地， 所述 酸性溶液中氢氟酸、 硝酸和水的体积比为1:(2 ‑4):(8‑12)； 优选地， 所述 酸性溶液的温度为20 ‑30℃； 优选地， 所述 一段超声处 理的时间为10 ‑20min； 优选地， 所述 一段超声处 理的功率 为3100‑3300W。 6.根据权利要求4或5所述的方法， 其特征在于， 所述二次清洁的方式还包括在所述一 段超声处 理后对钛靶材进行洗涤。 7.根据权利要求6所述的方法， 其特征在于， 所述洗涤的方式包括将超声处理后的钛靶 材置于洗涤液中进行二段超声处 理； 优选地， 所述洗涤液包括水； 优选地， 所述 二段超声处 理的时间为5 ‑15min； 优选地， 所述 二段超声处 理的功率 为3100‑3300W。 8.根据权利要求1 ‑7任一项所述的方法， 其特征在于， 所述三次清洁的方式包括对钛靶 材进行冲洗； 优选地， 所述冲洗的工具包括高压水枪； 优选地， 所述高压水枪的压力为75 00‑8500kPa； 优选地， 所述冲洗的时间为5 ‑10min。 9.根据权利要求1 ‑8任一项所述的方法， 其特 征在于， 所述干燥的工具包括气枪。 10.根据权利要求1 ‑9任一项所述的方法， 其特 征在于， 所述方法包括以下步骤： 将侧面滚花的钛靶材用塑料刷进行2 ‑8min的刷洗， 然后将钛靶材置于20 ‑30℃的酸性 溶液中进行3100 ‑3300W、 10 ‑20min的一段超声处理， 一段超声处理后的钛靶材置于水中进 行3100‑3300W、 5‑15min的二段超声处理， 随后使用7500 ‑8500kPa的高压水枪对钛靶材进行 冲洗5‑10min， 再用气枪对钛靶材进行干燥， 得到洁净的钛靶材； 其中， 酸性溶液中包括体积比为1:(2 ‑4):(8‑12)的氢氟酸、 硝酸和水。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114887963 A 2一种钛靶材清洁的方 法 技术领域 [0001]本发明属于靶材清洗技 术领域， 尤其涉及一种钛靶材清洁的方法。 背景技术 [0002]高纯钛作为电子信息领域重要的功能薄膜材料， 近年来随着我国集成电路、 平面 显示、 太阳能等产业的快速发展需求量快速上升。 磁控溅射技术是制备薄膜材料斜的关键 技术之一， 高纯钛溅射靶材 是磁控溅射工艺中的关键耗材， 具有广阔的市场应用前 景。 [0003]钛靶材作为高附加值的镀膜材料， 在化学纯度、 组织性能等方面具有严格的要求， 技术含量高、 加工难度大， 靶材制备技术如组织控制、 工艺成型等核心工艺技术还有改进的 空间。 针对下游高端应用， 开 发高性能钛溅射靶材， 是实现电子信息制造业关键材料的自主 研制和推动钛工业向高端转型升级的重要举措。 [0004]钛靶材加工过程中常见的晶圆particle问题的发生主要是沉积在靶材边缘滚花 处的颗粒发生脱落， 从而造成晶圆上产生part icle问题， 造成客户端晶圆良率下降。 增加边 缘滚花钛靶的清洗工艺， 最大可能清洗靶 材blank边缘滚花处的金属残屑， 从而有效降低靶 材边缘由于re ‑depo层附着过厚而造成的靶 材边缘滚花处残存的金属屑附着力不够 而脱落 的风险， 降低par ticle问题的产生。 [0005]CN107413715A公开了一种靶材的清洁方法， 包括： 提供靶材； 采用高压清洗工艺对 所述靶材喷射清洗液。 由于采用高压清洗工艺对所述靶材进 行清洁， 提高了工艺效率， 且降 低了成本 。 [0006]CN113458048A公开了一种LCD靶材表面的清洗方法， 所述清洁方法包括： 使用第一 洁净布对LCD靶材表 面进行第一清洗； 所述第一洁净布 为浸泡第一清洁剂的洁净布； 所述第 一洁净布与第一清洁剂的比例为每块第一洁净布浸泡于10 ‑15mL第一清洁剂； 所述清洗方 法通过控制洁净布与清洁剂的比例， 减少 了清洁剂的消 耗量， 并能够降低清洁剂在靶材表 面的残留， 同时又能够达到较好的清洗效果； 而且本发明提供的清洗方法能够极大地缩短 清洗时间， 能够将清洗的合格率 提高至98％。 [0007]CN108816929A公开了一种钽靶材生产过程中半成品钽螺纹的清洗方法， 包括如下 步骤： (A)将钽螺纹超声波处理3 ‑10min后， 表面涂抹清洁剂； (B)再经过刷洗、 吹干、 真空干 燥即可。 本发明的清洗方法通过将超声波、 刷洗、 真空干燥等处理方法进行综合利用， 可以 对钽靶在生产制作过程中的清洗工序的操作进行更为精细的设计， 除去了钽螺纹表面的脏 污、 油污， 并能提高该靶材的后续使用性能， 提高其在溅射过程中的反应速度， 降低误码率， 提高效率以及提高钽靶的焊接性能， 因此该清洗方法虽然工艺简单， 但是 处理效果显著， 值 得广泛推广应用。 [0008]为了靶材边缘设计特定的滚花结构可以减少Particle现象的发生， 但是在客户使 用中后期仍然会出现Particle的问题， 经过产品实验分析发现， 未经过表面特定清洗工艺 的Ti靶由于滚花处有挤压和打磨的处理， 所以在滚花沟槽处的残屑不容易去除； 因此需要 增加特定的清洗工将滚花表面的残屑去除， 有效预防Particle问题导致的客户端晶圆良率说　明　书 1/6 页 3 CN 114887963 A 3