(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210381476.9 (22)申请日 2022.04.11 (71)申请人 中国电子科技 集团公司第三十八研 究所 地址 230000 安徽省合肥市高新 技术开发 区香樟大道19 9号 (72)发明人 孙国清　李明武　李承虎　邹文忠　 王友龙　张勇　 (74)专利代理 机构 合肥昊晟德专利代理事务所 (普通合伙) 3415 3 专利代理师 王瑞 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种用于数字阵列模块的自动清洗方法 (57)摘要 本发明公开一种用于数字阵列模块的自动 清洗方法， 采用用于数字阵列模块的整体清洗装 置， 当将待清洗的数字阵列模块固定于运载装置 上， 耐压清洗腔体内达到真空度后真 空装置暂停 工作清洗溶剂经液体加压装置加压后注入耐压 清洗腔体中以对 数字阵列模块进行喷淋清洗； 喷 淋清洗完成后热交换装置开始工作， 对耐压清洗 腔体底部的清洗溶剂进行热交换升温， 使清洗溶 剂逐步达到沸点， 使耐压清洗腔体内保持负压状 态加速溶剂气化； 真空装置出口端将溶剂的饱和 蒸汽送入缓冲罐， 饱和蒸汽在高压和大温差的双 重作用下快速液化被压回加压储 液罐； 本发明实 现了数字阵列模块整体的自动化清洗， 溶剂回收 循环使用提高了环保性， 能耗也较传统溶剂清洗 机大大降低。 权利要求书2页 说明书4页 附图3页 CN 114951095 A 2022.08.30 CN 114951095 A 1.一种用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 采用用于数字阵列模块的整 体清洗装置， 所述数字阵列模块的整体清洗装置包括耐压清洗腔体、 缓冲罐、 热交换装置、 加压储液罐、 冷交换装置、 废液回收槽、 真空装置， 所述耐压清洗腔 体内设置有运载装置， 所 述耐压清洗腔体和所述加压储液罐连通， 所述耐压清洗腔体和所述加压储 液罐之间设置有 液体加压装置， 所述加压储液罐内设置有清洗溶剂， 所述热交换装置通过热循环管路与所 述耐压清洗腔体相连， 所述耐压清洗腔体上部与所述真空装置连通， 所述真空装置与所述 缓冲罐相连， 所述缓冲罐通过冷循环管道经所述冷交换装置与所述加压储液罐连通， 所述 缓冲罐和所述冷交换装置之 间还设置有气 体增压装置， 所述耐压清洗腔 体和所述加压储液 罐底部均设置有称重装置， 所述废液回收槽通过排废管路与所述耐压清洗腔体相连； 所述用于数字阵列模块的自动清洗方法包括： 当将待清洗的数字阵列模块固定于所述运载装置上之后， 所述耐压清洗腔体关门并密 封； 所述真空装置开始工作， 将所述耐压清洗腔体内的空气排出， 所述耐压清洗腔体内达 到真空度后所述真空装置暂停工作； 所述加压储液罐内的所述清洗溶剂经所述液体加压装置加压后注入所述耐压清洗腔 体中以对数字阵列模块进行喷淋清洗， 同时所述运载装置运行， 带动数字阵列模块进行前 后往复运动； 喷淋清洗 完成后， 所述 运载装置和所述液体增压装置停止 工作； 所述热交换装置开始工作， 对所述耐压清洗腔体底部的所述清洗溶剂进行热交换升 温， 使所述清洗溶剂逐步达到沸点； 所述清洗溶剂逐步气化的过程中所述真空装置同时工 作， 使所述耐压清洗腔体内保持负压状态加速溶剂 气化； 所述真空装置出口端将溶剂的饱和蒸汽送入所述缓冲 罐， 所述缓冲 罐的罐内压力逐渐 上升达到所述气体增压装置的启动压力后， 所述气体增压装置开始工作， 对所述清洗溶剂 的饱和蒸汽进一步加压， 所述清洗溶剂的饱和蒸汽在所述冷交换装置提供冷量时温差进一 步加大， 所述清洗溶剂的饱和蒸汽在高压和大温差的双重作用下快速液化被压回所述加压 储液罐。 2.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述加压储液 罐和所述耐压清洗腔 体底部都安装有 所述称重装置， 监控喷淋清洗过程中所使用的溶剂用 量和压回阶段 所回收的溶剂用量， 当所回收的溶剂用达 到回收目标时， 清洗周期完成。 3.如权利要求2所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述清洗溶剂 为氢氟醚族或氢氟氧族溶剂。 4.如权利要求2所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述耐压清洗 腔体采用气动密封或螺牙密封 。 5.如权利要求2所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述运载装置 采用磁流体密封传动或永磁 体密封传动。 6.如权利要求2所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述热交换装 置采用管壳 式热交换器或板式热交换器。 7.如权利要求2所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述冷交换装 置采用管壳 式冷交换器或板式冷交换器， 冷源 采用冷媒制冷机或者冷水制冷机 。 8.如权利要求2所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述真空装置权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114951095 A 2采用风冷式或者水冷式真空发生器， 采用气驱动或者电驱动。 9.如权利要求2所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述液体增压 装置和所述气体增压装置采用电动增压泵或气动增压泵。 10.如权利要求2所述的用于数字阵列模块的自动清洗方法， 其特征在于， 所述称重装 置采用称重传感器或称重电子 秤。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114951095 A 3