(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210994570.1 (22)申请日 2022.08.18 (71)申请人 宁波芯丰精密科技有限公司 地址 315400 浙江省宁波市余 姚市经济开 发区城东 新区冶山路 (72)发明人 万先进　梁志远　李文超　边逸军　 (74)专利代理 机构 北京品源专利代理有限公司 11332 专利代理师 袁微微 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 5/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 5/08(2006.01) H01L 21/67(2006.01)H01L 21/683(2006.01) (54)发明名称 晶圆清洗装置及清洗方法 (57)摘要 本发明属于半导体制造技术领域， 公开了晶 圆清洗装置及清洗方法。 该晶圆清洗装置包括底 座、 驱动组件和喷嘴组件， 底座设有容纳槽； 驱动 组件转动穿 设于容纳槽的槽底， 驱动组件的端部 设有吸附件， 吸附件位于容纳槽内， 吸附件与驱 动组件传动连接， 且吸附件能吸附晶圆； 喷嘴组 件包括支撑杆以及设于支撑杆端部的喷嘴， 支撑 杆与容纳槽的槽底转动连接， 喷嘴包括第一喷嘴 和第二喷嘴， 第一喷嘴能向晶圆的上表面喷射清 洗液， 第二喷嘴能向晶圆的上表面喷射气体， 且 第二喷嘴的输出口正对晶圆的中心处设置。 本发 明提高了晶圆表面清洁度并改善了晶圆的甩干 效果。 权利要求书2页 说明书5页 附图2页 CN 115228821 A 2022.10.25 CN 115228821 A 1.晶圆清洗装置， 其特 征在于， 包括： 底座(1)， 设有容纳槽(1 1)； 驱动组件， 转动穿设于所述容纳槽(11)的槽底， 所述驱动组件 的端部设有吸附件(3)， 所述吸附件(3)位于所述容纳槽(11)内， 所述吸附件(3)与所述驱动组件传动连接， 且所述 吸附件(3)能吸附晶圆； 喷嘴组件， 包括支撑杆(41)以及设于所述支撑杆(41)端部 的喷嘴， 所述支撑杆(41)与 所述容纳槽(11)的槽底转动连接， 所述喷嘴包括第一喷嘴(421)和第二喷嘴(422)， 所述第 一喷嘴(421)能向所述晶圆的上表 面喷射清洗液， 所述第二喷嘴(422)能向所述晶圆的上表 面喷射气体， 且所述第二喷 嘴(422)的输出口正对所述晶圆的中心处设置 。 2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述吸附件(3)为盘状结构， 所述 吸附件(3)内设有吸附腔(31)， 所述吸附件(3)上表 面设有若干个与所述吸附腔(31)连通的 吸附孔， 所述吸附腔(31)用于与外 部气管连通。 3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述驱动组件包括中空双出轴电 机(21)， 所述中空双出轴电机(21)包括相互导通的第一输出轴(211)和第二输出轴(212)， 所述第一输出轴(211)与所述吸附件(3)传动连接， 且所述第一输出轴(211)与所述吸附腔 (31)导通， 所述第二输出轴(212)用于与外 部气管连通。 4.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述第二输出轴(212)的端部固 定连接有联轴转换件(22)， 所述联轴 转换件(22)远离所述第二输出轴(212)的端部设有插 接槽， 所述插接槽的槽底设有导通孔， 所述导通孔与所述第二输出轴(212)连通， 所述插接 槽用于与外 部气管连接。 5.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述第一输出轴(211)通过连轴 件(25)与所述吸附件(3)连接， 所述连轴件(25)具有连通孔， 所述第一输出轴(211)和所述 吸附腔(31)通过 所述连通 孔连通。 6.根据权利要求5所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述连轴件( 25)与所述吸附件 (3)可拆卸连接 。 7.根据权利 要求1‑6任一项所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述容纳槽(11)的槽底 设有导向凸起(12)， 所述驱动组件穿设于所述 导向凸起(12)。 8.根据权利要求1 ‑6任一项所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述晶圆清洗装置还包 括过滤件(5)， 所述过滤件(5)滑动连接于所述容纳槽(11)的侧壁， 所述过滤件(5)的高度低 于所述吸附件(3)的高度， 所述过 滤件(5)能对所述清洗液进行 过滤处理。 9.根据权利要求8所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述晶圆清洗装置还包括护罩 (6)， 所述护罩(6)间隔围设于所述吸附件(3)的周侧， 所述护罩(6)的一端与所述过滤件(5) 连接， 所述护罩(6)的另一端能凸出 所述容纳槽(1 1)的槽口。 10.清洗方法， 用于对晶圆进行清洗， 其特征在于， 采用如权利要求1 ‑9任一项所述的晶 圆清洗装置， 包括如下步骤： 提供一晶圆； 将所述晶圆设于所述吸附件(3)， 所述吸附件(3)对所述晶圆进行吸附； 转动所述支撑杆(41)， 所述支撑杆(41)带动所述喷嘴运动使所述喷嘴运动 至所述晶圆 的上方；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115228821 A 2所述驱动组件驱动所述吸附件(3)转动； 所述第一喷嘴(421)向所述晶圆的上表面喷射清洗液， 以对所述晶圆的上表面进行清 洗； 清洗完成后， 所述第二喷 嘴(422)向所述晶圆的上表面中心处喷射气体。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115228821 A 3