(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210939459.2 (22)申请日 2022.08.05 (71)申请人 苏州高芯众科半导体有限公司 地址 215000 江苏省苏州市吴江区江陵街 道富家路7 77号 (72)发明人 辛长林　董金勇　 (74)专利代理 机构 苏州市中南伟业知识产权代 理事务所(普通 合伙) 32257 专利代理师 赵艳芳 (51)Int.Cl. H01L 21/67(2006.01) B08B 13/00(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 3/04(2006.01) (54)发明名称 一种晶圆清洗系统 (57)摘要 本发明涉及一种晶圆清洗系统， 包括清洗机 架、 上料台、 机械臂和气悬浮移动装置， 清洗机架 上依次设置有多个槽子， 每个槽子的内壁上均涂 覆有氧化钇涂层， 至少存在一个槽子作为药液 槽、 一个槽子作为水槽、 以及一个槽子作为干燥 槽； 上料台上放置有上料盒； 机械臂上可拆卸地 连接有机械手， 机械手用于抓取上料盒中的晶圆 并放置于相应的槽子中； 机械臂与气悬浮移动装 置相连接， 气悬浮移动装置用于驱动机械臂移动 至对应的槽子处。 本发明可以有效提高晶圆的清 洗效率和清洗效果。 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 CN 115172225 A 2022.10.11 CN 115172225 A 1.一种晶圆清洗系统， 其特 征在于， 包括： 清洗机架， 所述清洗机架上依次设置有多个槽子， 每个所述槽子的内壁上均涂覆有氧 化钇涂层， 至少存在一个所述槽子作为药液槽、 一个所述槽子作为水槽、 以及一个所述槽子 作为干燥槽； 上料台， 所述上 料台上放置有上 料盒， 所述上 料盒用于储 存晶圆； 机械臂， 所述机械臂上可拆卸地连接有机械手， 所述机械手用于抓取所述上料盒中的 晶圆并放置 于相应的槽 子中； 气悬浮移动装置， 所述机械臂与所述气悬浮移动装置相连接， 所述气悬浮移动装置用 于驱动机 械臂移动至对应的槽 子处。 2.根据权利要求1所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述气悬浮移动装置包括用于承 载所述机械臂的移动悬浮台， 所述移动悬浮台可滑移地连接在导轨上， 所述导轨设置在运 输架体上部， 所述移动悬浮台上连接有通气管道， 通过向通气管道内通入气体使得移动悬 浮台处于悬浮状态， 所述移动悬浮台由驱动装置驱动沿所述 导轨移动。 3.根据权利要求2所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述移动悬浮台和导轨表面均涂 覆有陶瓷涂层。 4.根据权利要求1所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述机械臂与控制器通信连接， 所述控制器用于控制机械臂 根据不同的晶圆规格更换对应规格的机械手， 以及 控制机械臂 的移动位置 。 5.根据权利要求4所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述药液槽和水槽上均安装有温 度传感器和流 量传感器， 所述温度传感器和流 量传感器均 与控制器电连接 。 6.根据权利要求5所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述清洗机架上还安装有气体传 感器， 所述气体传感器与控制器电连接 。 7.根据权利要求4所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述控制器 内部存储有多种清洗 模式， 每种清洗模式均包括清洗路线、 清洗时间、 清洗温度、 干燥时间和药 液配比。 8.根据权利要求1所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述清洗机架的上部还连接有集 中排风系统， 所述集中排风系统包括等离子除尘装置和排风管， 所述等离子除尘装置用于 对清洗过程产生的废气进行除尘， 除尘后的废气经排 风管排出。 9.根据权利要求1所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述上料台的下部连接有升降装 置， 所述升降装置用于驱动上 料台升降。 10.根据权利要求1所述的晶圆清洗系统， 其特征在于， 所述机械手的外部包覆有保护 层， 所述保护层采用连续 碳化硅纤维。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115172225 A 2一种晶圆清洗系统 技术领域 [0001]本发明涉晶圆清洗技 术领域， 尤其是指一种晶圆清洗系统。 背景技术 [0002]在半导体集成电路的制造过程中， 需对晶圆进行清洗以去除残留在晶圆表面的杂 质， 通常采用湿法清洗工艺， 湿法清洗时， 需将晶圆置于清洗槽中， 并向清洗槽中注入药液， 以利用药液对晶圆进行清洗， 但是现有的湿法清洗工艺的清洗效率较低， 需耗费较多的人 力和时间， 另外， 清洗槽在长期使用的过程中， 容易受到药液影响而发生腐蚀， 一旦清洗槽 发生腐蚀， 则会 对晶圆的清洗产生 不良影响， 影响晶圆的品。 [0003]因此， 现有的湿法清洗 工艺清洗效率和清洗效果 不佳， 无法满足使用需求。 发明内容 [0004]为此， 本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术中湿法清洗工艺清洗效率和 清洗效果 不佳的缺陷。 [0005]为解决上述 技术问题， 本发明提供了一种晶圆清洗系统， 包括： [0006]清洗机架， 所述清洗机架上依次设置有多个槽子， 每个所述槽子的内壁上均涂覆 有氧化钇涂层， 至少存在一个所述槽子作为药液槽、 一个所述槽子作为水槽、 以及一个所述 槽子作为干燥槽； [0007]上料台， 所述上 料台上放置有上 料盒， 所述上 料盒用于储 存晶圆； [0008]机械臂， 所述机械臂上可拆卸地连接有机械手， 所述机械手用于抓取所述上料盒 中的晶圆并放置 于相应的槽 子中； [0009]气悬浮移动装置， 所述机械臂与所述气悬浮移动装置相 连接， 所述气悬浮移动装 置用于驱动机 械臂移动至对应的槽 子处。 [0010]在本发明的一个实施例中， 所述气悬浮移动装置包括用于承载所述机械臂的移动 悬浮台， 所述移动悬浮台可滑移 地连接在导轨上， 所述导轨设置在运输架体上部， 所述移动 悬浮台上连接有通气管道， 通过向通气管道内通入气体使得移动悬浮台处于悬浮状态， 所 述移动悬浮台由驱动装置驱动沿所述 导轨移动。 [0011]在本发明的一个实施例中， 所述移动悬浮台和导轨表面均涂覆有陶瓷涂层。 [0012]在本发明的一个实施例中， 所述机械臂与控制器通信连接， 所述控制器用于控制 机械臂根据不同的 晶圆规格更 换对应规格的机 械手， 以及控制机 械臂的移动位置 。 [0013]在本发明的一个实施例中， 所述药液槽和水槽上均安装有 温度传感器和流量传感 器， 所述温度传感器和流 量传感器均 与控制器电连接 。 [0014]在本发明的一个实施例中， 所述清洗机架上还安装有气体传感器， 所述气体传感 器与控制器电连接 。 [0015]在本发明的一个实施例中， 所述控制器内部存储有多种清洗模式， 每种清洗模式 均包括清洗路线、 清洗时间、 清洗温度、 干燥时间和药 液配比。说　明　书 1/5 页 3 CN 115172225 A 3