(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210922251.X (22)申请日 2022.08.02 (71)申请人 宋世琦 地址 215123 江苏省苏州市苏州工业园区 八达街99号11幢601室 (72)发明人 宋世琦　 (74)专利代理 机构 苏州大成君 合知识产权代理 事务所(普通 合伙) 32547 专利代理师 张伯坤 (51)Int.Cl. B08B 9/08(2006.01) B08B 9/093(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置及清 洗方法 (57)摘要 本发明的目的是提供一种用 于免疫分析设 备的磁微粒清洗装置及清洗方法， 包括按序排列 的初始工位、 第一清洗工位、 第二清洗工位、 第三 清洗工位和第四清洗工位； 所述第一清洗工位的 侧边设置第一磁块， 所述第一清洗工位的顶部设 置第一抽废针； 所述第二清洗工位的顶部设置第 一清洗液注液针； 所述第三清洗工位的侧边设置 第二磁块， 所述第二磁块靠近 反应容器的第二外 壁； 所述第四清洗工位的侧边设置第三磁块， 所 述第四清洗工位的顶部设置第二抽废针， 技术效 果如下： 清洗装置经过多工位配合的抽废液及加 注清洗液， 且第一清洗液注液针的出液口对准与 第一外壁相对应的反应容器的第一内壁， 使清洗 液直接对准附着在第一内壁的结合后的磁微粒， 使清洗更加彻底。 权利要求书2页 说明书7页 附图3页 CN 115156215 A 2022.10.11 CN 115156215 A 1.用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置， 其特 征在于， 包括按序排列的反应容器初始工位、 第一清洗工位、 第 二清洗工位、 第 三清洗工位和第 四清洗工位； 所述第一清洗工位的侧边设置第一磁块， 所述第一清洗工位的顶部设置第一抽废针， 所述第一磁块靠 近反应容器的第一外壁； 所述第二清洗工位的顶部设置第 一清洗液注液针， 所述第 一清洗液注液针的出液口对 准与第一外壁相对应的反应容器的第一内壁； 所述第三清洗工位的侧边设置第二磁块， 所述第二磁块靠近反应容器的第二外壁， 所 述第一外壁和所述第二外壁相对设置； 所述第四清洗工位的侧边设置第三磁块， 所述第 四清洗工位的顶部设置第二抽废针， 所述第三磁块靠 近反应容器的第一外壁； 所述第一抽废针和所述第二抽废针分别通过第一升降机构进行升降； 所述第一清洗液注液针的针头略高于所述反应容器的顶端。 2.如权利要求1所述的用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置， 其特征在于， 还包括第五 清洗工位、 第六清洗 工位和第七清洗 工位； 所述第五清洗工位的顶部设置第 二清洗液注液针， 所述第 二清洗液注液针的出液口对 准与第一外壁相对应的反应容器的第一内壁； 所述第六清洗 工位的侧边设置第四磁块， 所述第四磁块靠 近反应容器的第二外壁； 所述第七清洗工位的侧边设置第五磁块， 所述第七清洗工位的顶部设置第三抽废针， 所述第五磁块靠 近反应容器的第一外壁； 所述第三抽废针通过第一升降机构进行升降； 所述第二清洗液注液针的针头略高于所述反应容器的顶端。 3.如权利要求1或2所述的用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置， 其特征在于， 所述反 应容器的底部为弧形或锥形。 4.如权利要求3所述的用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置， 其特征在于， 所述第 一磁 块的最低端高于所述反应容器的最低端， 所述第二磁块的最低端高于所述反应容器的最低 端， 所述第三磁块的最低端高于所述反应容器的最低端， 所述第四磁块的最低端高于所述 反应容器的最低端， 所述第五磁块的最低端高于所述反应容器的最低端。 5.如权利要求4所述的用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置， 其特征在于， 所述第 一磁 块、 第二磁块、 第三磁块、 第四磁块和第五磁块的形状均为矩形、 圆形或异形。 6.如权利要求5所述的用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置， 其特征在于， 所述第 一磁 块、 第二磁块、 第三磁块、 第四磁块和第五磁块分别由若干个 磁块拼接而成。 7.免疫分析设备的磁微粒清洗方法， 其特 征在于， 包括以下步骤： 在反应容器中配置包括待测物与磁微粒的反应液， 磁微粒与待测物结合形成结合后的 磁微粒； 将反应容器移动至第 一清洗工位， 通过靠近反应容器的第 一外壁的第 一磁块将结合后 的磁微粒吸附至反应容器的第一内壁， 将第一抽废针下降至反应容器的底部， 抽走废液； 将反应容器移动至第 二清洗工位， 第 一清洗液注液针的出液口对准第 一内壁注入清洗 液；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115156215 A 2将反应容器移动至第 三清洗工位， 通过靠近反应容器的第 二外壁的第 二磁块将结合后 的磁微粒吸附至反应容器的第二内壁， 所述第二外壁和所述第一外壁相对设置； 将反应容器移动至第四清洗工位， 通过靠近反应容器的第 一外壁的第 三磁块将结合后 的磁微粒吸 附至反应容器的第一内壁， 所述第三磁块设置于所述第二磁块的斜对角， 结合 后的磁微粒被 自第二内壁吸 附至第一内壁， 将第二抽废针下降至反应容器的底部， 抽走废 液。 8.如权利要求7所述的免疫分析设备的磁微粒清洗方法， 其特征在于， 还包括以下步 骤： 将反应容器移动至第五清洗工位， 第 二清洗液注液针的出液口对准第 一内壁注入清洗 液； 将反应容器移动至第六清洗工位， 通过靠近反应容器的第 二外壁的第四磁块将结合后 的磁微粒吸附至反应容器的第二内壁； 将反应容器移动至第七清洗工位， 通过靠近反应容器的第 一外壁的第五磁块将结合后 的磁微粒吸 附至反应容器的第一内壁， 所述第 五磁块设置于所述第四磁块的斜对角， 结合 后的磁微粒被 自第二内壁吸 附至第一内壁， 将第三抽废针下降至反应容器的底部， 抽走废 液。 9.如权利要求8所述的免疫分析设备的磁微粒清洗方法， 其特征在于， 所述反应容器的 底部为弧形或锥形， 所述第一磁块的最低端高于所述反应容器的最低端， 所述第二磁块的 最低端高于所述反应容器的最低端， 所述第三磁块的最低端高于所述反应容器的最低端， 所述第四磁块的最低端高于所述反应容器的最低端， 所述第五磁块的最低端高于所述反应 容器的最低端。 10.如权利要求9所述的免疫分析设备的磁微粒清洗方法， 其特征在于， 所述反应容器 的移动路径为 直线或弧线。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115156215 A 3