(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222310012.7 (22)申请日 2022.08.31 (73)专利权人 德安燕伦纺织科技有限公司 地址 330400 江西省九江市德安县 工业园 东区 (72)发明人 董建强　秦盛银　王阳阳　 (51)Int.Cl. B32B 27/02(2006.01) B32B 27/36(2006.01) B32B 9/00(2006.01) B32B 9/04(2006.01) B32B 5/02(2006.01) B32B 17/02(2006.01) B32B 17/12(2006.01) B32B 33/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种遮光 抗辐射涤纶布 (57)摘要 本实用新型公开了一种遮光抗辐射涤纶布， 包括面料本体， 所述面料本体是由基料层、 抗辐 射层、 遮光基料、 遮光涂层、 抗皱层组成， 所述基 料层的顶端表 面设置有抗辐射层， 所述抗辐射层 的顶端表 面设置有抗皱层， 所述抗皱层的顶端表 面设置有遮光基料， 所述遮光基料的顶端涂有遮 光涂层， 所述基料层、 抗辐射层、 遮光基料、 抗皱 层均是采用经线纱和纬线纱交错编织而成。 本实 用新型中， 通过设置遮光基料和遮光涂层， 可 以 使得遮光抗辐射涤纶布的遮光性能更强， 其次基 料层、 抗辐射层、 遮光基料、 抗皱层的上下层相互 之间的经线纱和纬线纱之间相互交错设置， 使 得 上下层的面料相互辅助光线遮挡， 从而提高遮光 性能。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 217968760 U 2022.12.06 CN 217968760 U 1.一种遮光抗辐射涤纶布， 包括面料本体(9)， 其特征在于， 所述面料本体(9)是由基料 层(1)、 抗辐射层(2)、 遮光基料(3)、 遮光涂层(4)、 抗皱层(5)组成， 所述基料层(1)的顶端表 面设置有抗辐射层(2)， 所述抗辐射层(2)的顶端表面设置有抗皱层(5)， 所述抗皱层(5)的 顶端表面设置有遮光基料(3)， 所述遮光基料(3)的顶端涂有遮光涂层(4)， 所述基料层(1)、 抗辐射层(2)、 遮光基料(3)、 抗皱层(5)均是采用经线纱(6)和纬线纱(7)交错编织而成， 所 述基料层(1)、 抗辐射层(2)、 遮光基料(3)、 抗皱层(5)的上下层相互之间的经线纱(6)和纬 线纱(7)之间相互 交错设置 。 2.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布， 其特征在于， 所述基料层(1)采用聚 酯纤维交错编织而成。 3.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布， 其特征在于， 所述抗辐射层(2)采用 碳纤维交错编织而成。 4.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布， 其特征在于， 所述抗皱层(5)采用记 忆纤维交错编织而成。 5.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布， 其特征在于， 所述遮光基料(3)采用 玻纤丝线交错编织而成。 6.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布， 其特征在于， 所述遮光涂层(4)采用 聚丙烯酸甲酯涂层剂， 且聚丙烯酸甲酯涂层剂中添加遮光剂。 7.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布， 其特征在于， 所述抗辐射层(2)、 遮光 基料(3)、 遮光涂层(4)、 抗皱层(5)均设置有两层， 两层所述抗辐射层(2)、 遮光基料(3)、 遮 光涂层(4)和抗皱层(5)关于基料层(1)上 下对称设置 。 8.根据权利要求1所述的一种遮光抗辐射涤纶布， 其特征在于， 所述遮光涂层(4)的表 面设置有印花(8)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217968760 U 2一种遮光抗辐射涤纶布 技术领域 [0001]本实用新型 涉及布料技 术领域， 尤其涉及一种遮光 抗辐射涤纶布。 背景技术 [0002]涤纶布是日常布料用的最多的一种化纤服装面料， 其最大的优点是抗皱性和保形 性很好， 因此， 适 合做外套服装、 各类箱包和帐篷 等户外用品。 [0003]现有的技 术存在以下问题： [0004]现有的遮光抗辐射涤纶布的表面镀有纳米限位层， 但是在使用过程中会因为使用 时间过程而导 致其从布料表面脱落， 无法长时间使用。 [0005]我们为此， 提出了一种遮光 抗辐射涤纶布解决上述 弊端。 实用新型内容 [0006]本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点， 而提出的一种遮光抗辐射 涤纶布。 [0007]为了实现上述目的， 本实用新型采用了如下技术方案： 一种遮光抗辐射涤纶布， 包 括面料本体， 所述面料本体是由基料层、 抗辐射层、 遮光基料、 遮光涂层、 抗皱层组成， 所述 基料层的顶端表面设置有抗辐 射层， 所述抗辐 射层的顶端表面设置有抗皱层， 所述抗皱层 的顶端表面设置有遮光基料， 所述遮光基料的顶端涂有遮光涂层， 所述基料层、 抗辐 射层、 遮光基料、 抗皱层均是采用经线纱和纬线纱交错编织而成， 所述基料层、 抗辐 射层、 遮光基 料、 抗皱层的上 下层相互之间的经线纱和 纬线纱之间相互 交错设置 。 [0008]优选的， 所述基料层采用聚酯纤维交错编织而成。 [0009]优选的， 所述 抗辐射层采用碳纤维交错编织而成。 [0010]优选的， 所述 抗皱层采用记 忆纤维交错编织而成。 [0011]优选的， 所述遮光基料采用玻纤丝线交错编织而成。 [0012]优选的， 所述遮光涂层采用聚丙烯酸甲酯涂层剂， 且聚丙烯酸甲酯涂层剂中添加 遮光剂。 [0013]优选的， 所述抗辐射层、 遮光基料、 遮光涂层、 抗皱层均设置有两层， 两层所述抗辐 射层、 遮光基料、 遮光涂层和抗皱层关于基料层上 下对称设置 。 [0014]优选的， 所述遮光涂层的表面设置有印花。 [0015]与现有技 术相比， 本实用新型的有益效果是； [0016]本实用新型中， 通过设置遮光基料和遮光涂层， 可以使得遮光抗辐射涤纶布的遮 光性能更强， 其次基料层、 抗辐射层、 遮光基料、 抗皱层的上下层相互之间的经线纱和纬线 纱之间相互 交错设置， 使得 上下层的面料相互辅助光线遮挡， 从而提高遮光 性能。 附图说明 [0017]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实施例说　明　书 1/3 页 3 CN 217968760 U 3