(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221911194.7 (22)申请日 2022.07.20 (73)专利权人 昆山驰诺新材料科技有限公司 地址 215000 江苏省苏州市昆山市周市镇 横长泾路378号2号房 (72)发明人 吴诚　王海波　 (74)专利代理 机构 北京哌智科创知识产权代理 事务所(普通 合伙) 11745 专利代理师 来庆英 (51)Int.Cl. B32B 27/32(2006.01) B32B 27/08(2006.01) B32B 3/30(2006.01) B32B 3/24(2006.01) B32B 9/00(2006.01)B32B 9/04(2006.01) (54)实用新型名称 一种高耐磨性的CP P抗静电离型膜结构 (57)摘要 本实用新型公开一种高耐磨性的CPP抗静电 离型膜结构， 属于离型膜技术领域， 包括CPP基 材， 所述CPP基材的顶部设置有硅胶层， 所述硅胶 层的顶部与底部皆开设有气隔腔， 所述硅胶层的 顶部设置有UPE薄膜， 所述UPE薄膜的顶部设置有 氧化聚乙烯蜡层。 本实用新型CPP基材顶部硅胶 层的设置， 能够在受到挤压时进行缓冲， 降低接 触时的挤压力， 继而降低摩擦效果， 另外通过硅 胶层上下表 面上气隔腔的设置， 能够提高使用过 程中的形变效果， 硅胶层 顶部UPE薄膜的设置， 配 合氧化聚乙烯 蜡层进行使用， 能够增加离型膜表 面的光滑度， 降低摩擦系数， 继而提高耐磨性， CPP基材两侧扣槽的设置， 能够方便在安装以及 拆卸上， 将离型膜进行揭开， 实用性更高。 权利要求书1页 说明书2页 附图2页 CN 217835001 U 2022.11.18 CN 217835001 U 1.一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜结构， 其特征在于： 包括CPP基材(1)， 所述CPP基材 (1)的顶部设置有硅胶层(3)， 所述硅胶层(3)的顶部与底部皆开设有气隔腔(4)， 所述硅胶 层(3)的顶部设置有 UPE薄膜(6)， 所述UPE薄膜(6)的顶部设置有氧化聚乙烯蜡层(7)。 2.根据权利 要求1所述的一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜结构， 其特征在于： 所述CPP 基材(1)与硅胶 层(3)之间设置有防静电膜(2)。 3.根据权利 要求2所述的一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜结构， 其特征在于： 所述UPE 薄膜(6)的顶部均匀开设有限位凹槽(8)， 且限位凹槽(8)的长度与UPE薄膜(6)的宽度相同。 4.根据权利要求3所述的一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜结构， 其特征在于： 所述限 位凹槽(8)的剖面形状皆为U字形。 5.根据权利要求4所述的一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜结构， 其特征在于： 所述硅 胶层(3)顶部与底部的气隔腔(4)首尾相连， 且气隔腔(4)的厚度为硅胶 层(3)厚度的一半。 6.根据权利要求5所述的一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜结构， 其特征在于： 所述硅 胶层(3)的两侧之间开设有通 孔(5)， 所述 通孔(5)与气隔腔(4)导 通。 7.根据权利 要求6所述的一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜结构， 其特征在于： 所述CPP 基材(1)的两端皆开设有扣槽(9)， 且扣槽(9)的剖面形为V字形。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217835001 U 2一种高耐磨性的CP P抗静电离型膜结构 技术领域 [0001]本实用新型涉及一种离型膜结构， 特别是涉及一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜 结构， 属于 离型膜技 术领域。 背景技术 [0002]激光打孔过程是激光和物质相互作用的热物理过程， 它是由激光光束特性(包括 激光的波长、 脉冲宽度、 光束发散角、 聚焦状态等)和物质的诸多热物理特性决定的。 [0003]现有技术中的激光钻孔装备存在 如下问题： [0004]1、 在进行聚焦调节的时候无法进行自动调节； [0005]2、 现有技 术中的激光钻孔装备对 扩束镜没有可调的支撑架不够便捷； [0006]为此设计一种高耐磨性的CP P抗静电离型膜结构来优化上述问题。 实用新型内容 [0007]本实用新型的主要目的是为了提供一种高耐磨性的CPP抗静电离型膜结构， CPP基 材顶部硅胶层的设置， 能够在受到挤压时进 行缓冲， 降低接触时的挤压力， 继而降低摩擦效 果， 另外通过硅胶层上下表面上气隔腔的设置， 能够提高使用过程中的形变效果， 硅胶层顶 部UPE薄膜的设置， 配合氧化聚乙烯蜡层进行使用， 能够增加离型膜表面的光滑度， 降低摩 擦系数， 继而提高耐磨性， CPP基材两侧扣槽的设置， 能够方便在安装以及拆卸上， 将离型膜 进行揭开， 实用性更高。 [0008]本实用新型的目的可以通过采用如下技 术方案达到： [0009]一种高耐磨 性的CPP抗静电离型膜 结构， 包括CPP基材， 所述CPP基材的顶部设置有 硅胶层， 所述硅胶层的顶部与底部皆开设有气隔腔， 所述硅胶层的顶部设置有UPE薄膜， 所 述UPE薄膜的顶部设置有氧化聚乙烯蜡层。 [0010]优选的： 所述CP P基材与硅胶 层之间设置有防静电膜。 [0011]优选的： 所述UPE薄膜的顶部均匀开设有限位凹槽， 且限位凹槽的长度与UPE薄膜 的宽度相同。 [0012]优选的： 所述限位凹槽的剖面形状皆为U字形。 [0013]优选的： 所述硅胶层顶部与底部 的气隔腔首尾相 连， 且气隔腔的厚度为硅胶层厚 度的一半。 [0014]优选的： 所述硅胶 层的两侧之间开设有通 孔， 所述通孔与气隔腔导 通。 [0015]优选的： 所述CP P基材的两端皆开设有扣槽， 且扣槽的剖面形为V字形。 [0016]本实用新型的有益效果 为： [0017]本实用新型提供的一种高耐磨 性的CPP抗静电离型膜 结构,CPP基材顶部硅胶层的 设置， 能够在受到挤压时进行缓冲， 降低接触时的挤压力， 继而降低摩擦效果， 另外通过硅 胶层上下表面上气隔腔的设置， 能够提高使用过程中的形变效果； [0018]硅胶层顶部UPE薄膜的设置， 配合氧化聚乙烯蜡层进行使用， 能够增加离型膜表面说　明　书 1/2 页 3 CN 217835001 U 3