(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211074786.2 (22)申请日 2022.09.02 (71)申请人 曲靖阳光 新能源股份有限公司 地址 655000 云南省曲靖市曲靖开发区翠 峰路83号 (72)发明人 陈立民　赵亮　熊新爽　娄勇　 王泽东　 (74)专利代理 机构 北京冠和权律师事务所 11399 专利代理师 陈姣姣 (51)Int.Cl. B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)发明名称 一种硅片用超 声波清洗装置及清洗方法 (57)摘要 本发明公开了一种硅片用超声波清洗装置 及清洗方法， 包括： 清洗筒， 所述清洗筒的内壁上 设有升降装置和超声波发生器， 所述升降装置上 设有放料板， 所述升降装置上设有放置架， 所述 超声波发生器和升降装置均与控制器电连接； 通 过升降装置将放置架和放料板抬升至同一高度， 然后推动放料板上放好待清洗硅片的新放置架 取代升降装置上的放置架， 完成清洗机的快速换 料， 提高清洗 速度。 权利要求书3页 说明书8页 附图4页 CN 115463894 A 2022.12.13 CN 115463894 A 1.一种硅片用超声 波清洗装置， 其特 征在于， 包括： 清洗筒(1)， 所述清洗筒(1)的内壁上设有升降装置(4)和超声波发生器(3)， 所述升降 装置(4)上设有放料板(16)， 所述升降装置(4)上设有放置架(2)， 所述超声波发生器(3)和 升降装置(4)均 与控制器电连接 。 2.根据权利要求1所述的一种硅片用超声 波清洗装置， 其特 征在于， 所述升降装置(4)包括： 升降板(18)， 所述升降板(18)设于所述清洗筒(1)内； 抬升装置， 所述清洗筒(1)上对称设有两个抬升装置， 所述抬升装置包括： 固定块(9)， 所述固定块(9)设于所述清洗筒(1)的外壁上； L形板(10)， 所述L形板(10)的一端与所述升降板(18)顶端连接， 所述L形板(10)的另一 端与所述第一电动伸缩杆(8)的一端 连接， 所述第一电动伸缩杆(8)的另一端与所述固定块 (9)顶端连接， 所述第一电动伸缩杆(9)与控制器电连接； U形杆(15)， 若干所述U形杆(15)的一端与所述升降板(18)顶端连接， 所述U形板(15)的 另一端与所述放料板(16)顶端 连接， 所述放料板(16)滑动连接于所述清洗筒(1)的外壁上， 所述L形板(10)位于相邻两个所述U形 杆(15)之间。 3.根据权利要求1所述的一种硅片用超声 波清洗装置， 其特 征在于， 所述放置架(2)包括： 放置板(5)， 所述放置板(5)为U形， 所述放置板(5)上均匀设有若干孔洞(6)， 所述放置 板(5)顶端均匀设有 若干分隔板(7)。 4.根据权利要求1所述的一种硅片用超声 波清洗装置， 其特 征在于， 所述升降板(18)顶端对称设有两个夹紧装置， 所述夹紧装置包括： 滑动槽(11)， 所述滑动槽(11)设于所述升降板(18)顶端， 所述滑动槽(11)位于所述L形 板(10)的一侧； 滑动块(13)， 所述滑动块(13)底端滑动连接于所述滑动槽(11)内， 所述滑动块(13)顶 端设有夹紧板(12)； 第二电动伸缩杆(14)， 所述第二电动伸缩杆(14)设于所述滑动块(13)与所述滑动槽 (11)的内壁之间， 所述第二电动伸缩杆(14)与控制器电连接 。 5.根据权利要求1所述的一种硅片用超声 波清洗装置及清洗方法， 其特 征在于， 所述升降板(18)上均匀设有 若干矩形孔(17)。 6.根据权利要求1所述的一种硅片用超声 波清洗装置， 其特 征在于， 所述孔洞(6)与所述矩形孔(17)的位置相对应。 7.根据权利要求1所述的一种硅片用超声 波清洗装置， 其特 征在于， 所述清洗筒(1)内还设有清理装置， 所述清理装置包括： 锥形槽(19)， 所述锥形槽(19)设于所述清洗筒(1)的内壁底端； 清理腔(20)， 所述清理腔(20)设于清洗筒(1)的内壁上， 所述清理腔(20)位于所述锥形 槽(19)的下 方， 所述锥形槽(19)与所述清理腔(20)连通； 伺服电机(22)， 所述伺服电机(22)设于所述清洗筒(1)内， 所述伺服电机(22)与控制器 电连接； 第一转动杆(23)， 所述第一转动杆(23)的一端与所述伺服电机(22)连接， 所述第一转权　利　要　求　书 1/3 页 2 CN 115463894 A 2动杆(23)的另一端伸入 所述清理腔(20)内与圆柱 块(21)连接， 所述圆柱 块(21)滑动连接于 所述清理腔(20)内， 所述圆柱块(21)内设有圆柱腔(32)， 所述圆柱腔(32)上均匀设有若干 进入孔(24)； 收集腔(29)， 所述收集腔(29)设于所述清洗筒(1)内， 所述收集腔(29)位于所述清理腔 (20)的下 方， 所述清理腔(20)与所述收集腔(2 9)通过连接管(3 0)连接； 积液腔(26)， 所述积液腔(26)设于所述清洗筒(1)内， 所述积液腔(26)位于所述清理腔 (20)的一侧； 第一管道(25)， 所述第一管道(25)的一端与所述积液腔(26)连接， 所述第一管道(25) 的另一端与所述圆柱腔(32)的内壁 转动连接， 所述第一管道(25)顶端设有 进液口(34)； 转动块(31)， 所述转动块(31)的两端固定连接于所述圆柱腔(32)的内壁上， 所述转动 块(31)转动套接于所述第一管道(25)上， 所述转动块(31)的上均匀设有若干连接块(37)， 所述连接块(37)与所述圆柱腔(32)的内壁固定连接； 所述转动块(31)上均匀设有 若干过滤器， 所述过 滤器包括： 第一流动腔(38)， 所述第一流动腔(38)上设于所述转动块(31)上， 所述第一流动腔 (38)的内壁上设有连通 孔(33)； 第二流通腔(35)， 所述第二 流通腔(35)设于所述连接块(37)内； 过滤孔(36)， 所述第一流通腔(38)和所述第二流通腔(35)的内壁上均匀设有若干过滤 孔(36)； 水泵(27)， 所述水泵(27)设于所述积液腔(26)的内壁上， 所述水泵(27)与所述清理筒 (1)的内壁 通过第二管道(28)连通。 8.根据权利要求1所述的一种硅片用超声 波清洗装置， 其特 征在于， 所述清理筒(1)的内还设有浓度调节装置， 所述浓度调节装置包括： 第一传动腔(39)， 所述第一传动腔(39)设于所述清洗筒(1)内， 所述第一传动腔(39)位 于所述清理腔(20)的一侧， 所述收集腔(20)的下 方设有第二传动腔(42)； 第一锥齿轮(40)， 所述第一锥齿轮(40)套接于所述第一转动杆(23)上， 所述第一锥齿 轮(40)位于所述第一传动腔(39)内； 第二转动杆(43)， 所述第二转动杆(43)的一端伸入所述第一传动腔(39)内与第二锥齿 轮(41)连接， 所述第二锥齿轮(41)与所述第一锥齿轮(40)啮合， 所述第二转动杆(43)伸入 所述第二传动腔(42)内与第一传动轮(4 4)连接； 第三转动杆(47)， 所述第三转动杆(47)的一端伸入所述积液腔(26)内， 所述第三转动 杆(47)的另一端伸入 所述第二传动腔(42)内与第二传动轮(46)连接， 所述第一传动轮(44) 与所述第二传动轮(46)通过皮带(45)连接； 搅拌杆(48)， 所述搅拌杆(48)套接于所述第三转动杆(47)上， 所述搅拌杆(48)位于所 述积液腔(26)内； 第一导电块(61)， 所述第一导电块(61)设于所述第三转动杆(47)上， 所述第一导电块 (61)与控制器电连接； 浮球套(49)， 所述浮球套(49)滑动套接于所述第三转动杆(47)上， 所述浮球套(49)位 于所述积液腔(26)内， 所述浮球套(49)上设有第二导电块(62)， 所述第二导电块(62)与控 制器电连接；权　利　要　求　书 2/3 页 3 CN 115463894 A 3