(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211160849.6 (22)申请日 2022.09.22 (71)申请人 西安奕斯伟材 料科技有限公司 地址 710065 陕西省西安市高新区西沣南 路1888号1-3-029室 (72)发明人 杨文武　 (74)专利代理 机构 西安维英 格知识产权代理事 务所(普通 合伙) 6125 3 专利代理师 归莹　宋东阳 (51)Int.Cl. B08B 9/087(2006.01) B08B 9/093(2006.01) B08B 15/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 用于副炉室的清洁装置 (57)摘要 本公开涉及一种用于副炉室的清洁装置， 包 括： 喷洒器， 其包括喷头和与 喷头流体连通的存 储器； 以及毛刷器， 其设置在喷洒器的下侧 并且 包括吸尘装置、 设置在吸尘装置内的第一驱动单 元和设置在吸尘装置的外周侧的毛刷， 第一驱动 单元构造成用于驱动吸尘装置旋转 以带动毛刷 旋转， 其中， 吸尘装置包括吸入端和与存储器流 体连通的第一排出端， 第一 驱动单元还构造成用 于驱动吸尘装置经由吸入端吸尘并经由第一排 出端将在吸尘中吸入的空气排出到存储器中， 以 使存储在存储器中的清洗液经由喷头喷至副炉 室的壁。 通过这种构造， 解决了副炉室人工清洁 不到位的问题， 避免了由此导致的晶体断线， 提 高了单晶硅棒的良率。 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 CN 115401044 A 2022.11.29 CN 115401044 A 1.一种用于副炉室的清洁装置， 其特 征在于， 包括： 喷洒器， 其包括喷头和与所述喷头流体连通的存 储器； 以及 毛刷器， 其设置在所述喷洒器的下侧并且包括吸尘装置、 设置在所述吸尘装置内的第 一驱动单元和设置在所述吸尘装置的外周侧的毛刷， 所述第一驱动单元构 造成用于驱动所 述吸尘装置 旋转以带动所述毛刷旋转， 其中， 所述吸尘装置包括吸入端和与所述存储器流体连通的第一排出端， 所述第一驱 动单元还构造成用于驱动所述吸尘装置经由所述吸入端吸尘并经由所述第一排出端将在 所述吸尘中 吸入的空气排出到所述存储器中， 以使存储在所述存储器中的清洗液经由所述 喷头喷至所述副炉室的壁。 2.根据权利要求1所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 还包括移动装置， 其设 置在所述毛刷器的下侧并且包括第二驱动单元和行走轮， 所述第二驱动单元构 造成用于驱 动所述行 走轮， 以使其能够 在所述壁上行走以带动所述清洁装置在所述副炉室内移动。 3.根据权利要求1或2所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 所述毛刷器还包括 设置在所述吸尘装置的下侧的集尘盒， 并且所述吸尘装置包括与所述集尘盒连通的第二排 出端。 4.根据权利要求1或2所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 所述吸尘装置包括 设置在所述第一 排出端中以用于过 滤灰尘的过 滤装置。 5.根据权利要求1或2所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 所述第一排出端的 端口的高度高于存 储在所述存 储器中的所述清洗液的高度。 6.根据权利要求1或2所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 所述吸入端呈圆筒 状并且包括设置在其圆筒状表面上的多个吸入孔。 7.根据权利要求2所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 所述移动装置还包括连 接所述第二驱动单 元与所述行 走轮的驱动臂。 8.根据权利要求7所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 所述驱动臂为可伸缩的 臂。 9.根据权利要求7或8所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 所述驱动臂构造成 能够通过所述第二驱动单元旋转并能够旋转成固定在下述位置： 在所述位置处， 所述行走 轮与所述副炉室的所述 壁接触， 并且所述驱动臂相对于所述 壁呈小于90度的角度。 10.根据权利要求2所述的用于副炉室的清洁装置， 其特征在于， 还包括无线遥控装置， 所述无线遥控装置通过控制所述第一驱动单元和所述第二驱动单元来控制所述清洁装置 的清洁操作。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115401044 A 2用于副炉室的清洁装 置 技术领域 [0001]本公开涉及清洁技 术领域， 具体地， 涉及用于副炉室的清洁装置 。 背景技术 [0002]拉晶工艺流程中对于拉晶炉的清扫至关重要， 每完成一炉拉晶生产后， 都需要对 拉晶炉进 行清洁， 包括热场部件清洗、 圆顶室内部清洁、 热屏清洁、 主炉室外表 面清洁、 副炉 室内部清洁等。 [0003]特别是对于副炉室， 针对沉积在其内表面上的氧化物的清洁更加重要。 在拉晶过 程中， 拉晶炉上方会通入惰性气体， 如果清洁不干净， 则沉积在副炉室内表面上的氧化物在 惰性气体的吹扫下可能会掉落到熔融硅溶液中， 过冷的氧化物会在硅溶液的表面形成热冲 击， 而该热冲击会随着溶液流动而传递至固液交接点。 由于拉晶过程中对固液交接点的温 度稳定性要求 非常高， 一旦出现热冲击， 单晶体会发生断线， 即单晶体将从单晶排列转变为 无规则多晶排列， 这很大程度上影响了单晶硅棒的整体良率， 对拉晶造成巨大损害。 发明内容 [0004]本部分提供了本公开的总体概要， 而不是对本公开的全部范围或所有特征的全面 公开。 [0005]本公开的一个目的在于提供一种能够充分清洁沉积在副炉室的壁上的氧化物的 用于副炉室的清洁装置 。 [0006]本公开的另一目的在于提供一种能够避免副炉室清洁过程中的二次污染的用于 副炉室的清洁装置 。 [0007]本公开的又一目的在于提供一种能够提高拉晶炉清洁的自动化程度的用于副炉 室的清洁装置 。 [0008]为了实现上述目的中的一个或更多个， 提供了一种用于副炉室的清洁装置， 其包 括： [0009]喷洒器， 其包括喷头和与喷头流体连通的存 储器； 以及 [0010]毛刷器， 其设置在喷洒器的下侧并且包括吸尘装置、 设置在吸尘装置内的第一驱 动单元和设置在吸尘装置的外周侧的毛刷， 第一驱动单元构造成用于驱动吸尘装置旋转以 带动毛刷旋转， [0011]其中， 吸尘装置包括吸入端和与存储器流体连通的第一排出端， 第一驱动单元还 构造成用于驱动吸尘装置经由吸入端吸尘并经由第一排出端将在吸尘中吸入的空气排出 到存储器中， 以使存 储在存储器中的清洗液 经由喷头喷至副炉室的壁。 [0012]在上述用于副炉室的清洁装置中， 还可以包括移动装置， 其设置在毛刷器的下侧 并且包括第二驱动单元和行走轮， 第二驱动单元构造成用于驱动行走轮， 以使其能够在壁 上行走以带动清洁装置在副炉室内移动。 [0013]在上述用于副炉室的清洁装置中， 毛刷器还可以包括设置在吸尘装置的下侧的集说　明　书 1/5 页 3 CN 115401044 A 3