(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210128631.6 (22)申请日 2022.02.11 (71)申请人 湖南麓星光电科技有限公司 地址 410004 湖南省长 沙市天心区新岭路 62号湖南生态医博园 （天心软件产业 园） A区A-1栋101 (72)发明人 范鹏　姜海　熊峰　刘俞含　 (74)专利代理 机构 长沙市融智专利事务所(普 通合伙) 43114 专利代理师 张伟 (51)Int.Cl. G02B 5/28(2006.01) C23C 14/10(2006.01) C23C 14/16(2006.01) C23C 14/34(2006.01)G01N 21/3504(2014.01) G01N 21/01(2006.01) (54)发明名称 一种红外滤光片及其制备方法和在海洋气 体遥感探测器中的应用 (57)摘要 本发明公开了一种红外滤光片及其制备方 法和在海洋气体遥感探测器中的应用， 红外滤光 片由Si基底及其表面的镀膜层构成； 其中， 镀膜 层由多层SiO镀膜层和Si镀膜层交替叠加构成。 通过在Si基底表面通过离子溅射镀膜依次交替 镀制SiO镀膜层和Si镀膜层， 即得具有2.8μm波 段、 2.35μm波段及1.59μm波段三通道的红外 滤 光片， 该红外滤光片能够实现一种或多种气体检 测， 检测过程中无需更换其他红外滤光片， 大大 降低了遥感探测装置体积和重量， 降低成本， 且 该红外滤光片能实现半高宽为100nm， 峰值透过 率达95％以上， 截止区透过率小于0.1 ％， 大大提 高了检测信噪比， 提高测量精确度。 权利要求书2页 说明书6页 附图1页 CN 114545543 A 2022.05.27 CN 114545543 A 1.一种红外滤光片， 其特征在于： 由Si基底及其表面的镀膜层构 成； 所述镀膜层由多层 SiO镀膜层和Si镀膜层交替叠加构成。 2.根据权利要求1所述的一种红外滤光片， 其特征在于： 所述镀膜层的总厚度为39517 ±10nm。 3.根据权利要求1或2所述的一种红外滤光片， 其特征在于： 所述镀膜层中Si镀膜层的 总厚度为14570 ±10nm， SiO镀膜层的总厚度为24947 ±10nm。 4.根据权利要求3所述的一种红外滤光片， 其特征在于： 所述镀膜层中单层Si镀膜层的 厚度29～741nm， 单层SiO镀膜层的厚度为1～82 2nm。 5.根据权利要求1～4任一项所述的一种红外滤光片， 其特征在于： 所述镀膜层由以下 Si镀膜层和SiO镀膜层交替叠加构成： SiO镀膜层， 厚度为 430±3nm； Si镀膜层， 厚度为25 3±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 462±3nm； Si镀膜层， 厚度为310 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为1 13±3nm； Si镀膜层， 厚度为31 1±3nm； SiO镀膜层， 厚度为73 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为738 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为3 58±3nm； Si镀膜层， 厚度为510 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 429±3nm； Si镀膜层， 厚度为3 08±3nm； SiO镀膜层， 厚度为819 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为126 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为5 35±3nm； Si镀膜层， 厚度为238 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为3 66±3nm； Si镀膜层， 厚度为 474±3nm； SiO镀膜层， 厚度为246 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为239 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为375 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为27 7±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 459±3nm； Si镀膜层， 厚度为7 7±3nm； SiO镀膜层， 厚度为381 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为3 56±3nm； SiO镀膜层， 厚度为5 50±3nm； Si镀膜层， 厚度为262 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 400±3nm； Si镀膜层， 厚度为183 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为25 5±3nm； Si镀膜层， 厚度为145 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为272 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为3 68±3nm； SiO镀膜层， 厚度为2 94±3nm； Si镀膜层， 厚度为159 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为3 52±3nm； Si镀膜层， 厚度为 471±3nm； SiO镀膜层， 厚度为316 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为128 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为98 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为242 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为625 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为16 5±3nm； SiO镀膜层， 厚度为183 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为315 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 436±3nm； Si镀膜层， 厚度为12 9±3nm； SiO镀膜层， 厚度为2 21±3nm； Si镀膜层， 厚度为2 26±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 401±3nm； Si镀膜层， 厚度为2 20±3nm； SiO镀膜层， 厚度为1～3nm； Si镀膜层， 厚度为271 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 484±3nm； Si镀膜层， 厚度为241 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 470±3nm； Si镀膜层， 厚度为 448±3nm；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114545543 A 2SiO镀膜层， 厚度为3 08±3nm； Si镀膜层， 厚度为176 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为247 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为310 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 414±3nm； Si镀膜层， 厚度为140 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为252 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为27 7±3nm； SiO镀膜层， 厚度为623 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为 43±3nm； SiO镀膜层， 厚度为184 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为315 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为625 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为32 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为184 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为154 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 491±3nm； Si镀膜层， 厚度为3 05±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 409±3nm； Si镀膜层， 厚度为2 23±3nm； SiO镀膜层， 厚度为548 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为94 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为3 39±3nm； Si镀膜层， 厚度为246 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 465±3nm； Si镀膜层， 厚度为15 6±3nm； SiO镀膜层， 厚度为52 2±3nm； Si镀膜层， 厚度为182 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为794 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为252 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 409±3nm； Si镀膜层， 厚度为3 56±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 485±3nm； Si镀膜层， 厚度为26 5±3nm； SiO镀膜层， 厚度为39 9±3nm； Si镀膜层， 厚度为213 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为6 62±3nm； Si镀膜层， 厚度为 48±3nm； SiO镀膜层， 厚度为813 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为209 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为513 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为161 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为591 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为2 29±3nm； SiO镀膜层， 厚度为5 50±3nm； Si镀膜层， 厚度为181 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为620 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为186 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为62 2±3nm； Si镀膜层， 厚度为209 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为670 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为2 90±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 469±3nm； Si镀膜层， 厚度为2 21±3nm； SiO镀膜层， 厚度为 491±3nm； Si镀膜层， 厚度为 473±3nm； SiO镀膜层， 厚度为238 ±3nm； Si镀膜层， 厚度为184 ±3nm； SiO镀膜层， 厚度为57 7±3nm； Si镀膜层， 厚度为2 23±3nm。 6.权利要求1～5任一项所述的一种红外滤光片的制备方法， 其特征在于： 在Si基底表 面通过离子溅射镀膜机依次交替镀制SiO镀膜层和Si镀膜层， 即得。 7.权利要求1～5任一项所述的一种红外滤光片的应用， 其特征在于： 作为海洋气体遥 感探测器三 通道红外滤光片应用。 8.根据权利 要求7所述的一种红外滤光片的应用， 其特征在于： 作为2.8 μm波段、 2.35 μm 波段、 1.59 μm波段三 通道红外滤光片用于海洋气体遥感探测器。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114545543 A 3