(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202122997177.1 (22)申请日 2021.11.25 (73)专利权人 浙江泰林分析仪 器有限公司 地址 310052 浙江省杭州市滨江区浦沿街 道南环路2 930号3幢10楼 (72)发明人 陈训龙　叶武青　袁鑫　朱靓　 夏信群　叶大林　 (74)专利代理 机构 杭州凯知专利代理事务所 (普通合伙) 33267 专利代理师 金盟 (51)Int.Cl. G01N 33/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种过氧化氢浓度传感器校准装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种过氧化氢浓度传感 器校准装置， 包括真空腔体， 真空腔体外设有包 裹真空腔体的温浴腔， 温浴腔底部或靠近底部设 有注水口、 所述的温浴腔上部或靠近上部设有出 水口， 温浴腔上设有 连通注水口与出水口的螺旋 通道， 所述的真空腔体内设有温度传感器。 本实 用新型在真空腔体外设有包裹真空腔体的温浴 腔， 在温浴腔底部或靠近底部设有注水口、 及温 浴腔上部或靠近上部设有出水口， 温浴腔上设有 连通注水口与出水口的螺旋通道， 通过注水口注 入热水， 热水可通过螺旋通道从出水口出去， 可 使热水准确、 无误的沿螺旋通道完全循环于真空 腔体外部。 在螺旋通道内快速完全循环的热水可 保持真空腔体内各处温度相对均衡， 有益于过氧 化氢浓度的监测。 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 CN 216718355 U 2022.06.10 CN 216718355 U 1.一种过氧化氢浓度传感器校准装置， 包括真空腔体， 其特征在于： 所述的真空腔体外 设有包裹真空腔体的温浴腔， 所述的温浴腔底部或靠近底部设有注水 口、 所述的温浴腔上 部或靠近上部设有出水 口， 所述的温浴腔上设有连通注水 口与出水 口的螺旋通道， 所述的 真空腔体内设有温度传感器， 所述的真空腔体上设有置入真空腔体内的过氧化氢传感器， 所述的真空腔体底部设有穿过温浴腔的注样口， 所述的真空腔体上设有抽真空口。 2.如权利要求1所述的过氧化氢浓度传感器校准装置， 其特征在于： 所述的温浴腔外设 有保温层。 3.如权利要求1所述的过氧化氢浓度传感器校准装置， 其特征在于： 所述的温浴腔内设 有螺旋导流板， 所述的螺旋导流板内侧密封连接真空腔 体外壁、 外侧密封连接温浴腔内壁， 所述的螺 旋导流板之间的间隙构成螺 旋通道。 4.如权利要求1所述的过氧化氢浓度传感器校准装置， 其特征在于： 所述的出水口、 注 水口设置 于温浴腔的侧壁。 5.如权利要求1所述的过氧化氢浓度传感器校准装置， 其特征在于： 所述的真空腔体上 方与保温层之间设有空隙。 6.如权利要求1所述的过氧化氢浓度传感器校准装置， 其特征在于： 所述的温浴腔设置 包裹于真空腔体的底部及侧周。 7.如权利要求3所述的过氧化氢浓度传感器校准装置， 其特征在于： 所述的螺旋通道的 螺距为螺 旋通道的高度及螺 旋导流板的厚度和。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216718355 U 2一种过氧化氢浓度传感器校准装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及一种过 氧化氢浓度传感器的校准装置 。 背景技术 [0002]医疗卫生、 生物制 药等行业通常需要用汽化过氧化氢灭菌方式来进行灭菌消毒。 在真空状态下， 汽化过氧化氢能保持较高的浓度而不冷凝， 因此具有 更佳的灭菌效果。 真空 状态下的汽化过氧化氢灭菌过程中， 监测过氧化氢 的浓度具有重要意义。 过氧化氢 的浓度 监测通常在过氧化氢浓度传感器校准装置内进行。 过氧化氢浓度传感器校准装置工作过程 中， 需要相对恒定的温度。 [0003]过氧化氢浓度传感器校准装置包括一个具有大容积空间的真空腔体， 通过在外部 设置容纳加热介质的腔体来控制校准装置内的温度， 现有的容纳加热介质的腔体通常设置 为大通间。 介质从注入口注入， 从出口流出， 大通间结构的腔体难以保证通间内各处的加热 介质能均匀的循环和更替， 因此无法保证校准装置真空腔体内温度均匀， 容易导致校准装 置内温度失衡。 而设置于真空腔体内一处的温度传感器所检测到的温度， 难以反应出真空 容器内的真实有效温度， 进而需要加强加热介质不断的调节， 增加了温度波动的上、 下值限 的范围， 使恒温效果 不佳。 从而影响校准装置其 他功能部件的正常工作。 发明内容 [0004]本实用新型为解决现有的过氧化氢浓度传感器校准过程中， 校准装置真空腔体内 温度不均匀， 影响测试数据的问题， 提供一种温度较为均匀， 温度相对准确可控的过氧化氢 浓度传感器校准装置 。 [0005]本实用新型解决现有问题的技术方案是： 一种过氧化氢浓度传感器校准装置， 包 括真空腔体， 作为改进， 所述的真空腔体外 设有包裹真空腔 体的温浴腔， 所述的温浴腔底部 或靠近底部设有注水 口、 所述的温浴腔上部或靠近上部设有出水 口， 所述的温浴腔上设有 连通注水 口与出水 口的螺旋通道， 所述的真空腔体内设有温度传感器， 所述的真空腔体上 设有置入真空腔体内的过氧化氢传感器， 所述的真空腔体底部设有穿过温浴腔的注样口， 所述的真空腔体上设有抽真空口。 [0006]作为进一 步改进， 所述的温浴腔外设有保温层。 [0007]作为进一步改进， 所述的温浴腔内设有螺旋导流板， 所述的螺旋导流板内侧密封 连接真空腔体外壁、 外侧密封连接温浴腔 内壁， 所述的螺旋导流板之间的间隙构成螺旋通 道。 [0008]作为进一 步改进， 所述的出 水口、 注水口设置 于温浴腔的侧壁。 [0009]作为进一 步改进， 所述的真空腔体上 方与保温层之间设有空隙。 [0010]作为进一 步改进， 所述的温浴腔设置包裹于真空腔体的底部及侧周。 [0011]作为进一步改进， 所述的螺旋通道的螺距为螺旋通道的高度及螺旋导流板的厚度 和。说　明　书 1/2 页 3 CN 216718355 U 3