(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111665421.2 (22)申请日 2021.12.31 (71)申请人 西安大医集团股份有限公司 地址 710018 陕西省西安市经济技 术开发 区凤城十二路66号首创国际城商务中 心28号楼1单 元3层10301室 (72)发明人 刘达林　闫浩　常少杰　 (74)专利代理 机构 深圳紫藤知识产权代理有限 公司 44570 专利代理师 苏蕾 (51)Int.Cl. G06T 11/00(2006.01) G06T 5/00(2006.01) (54)发明名称 散射校正方法、 成像系统、 校正设备及可读 存储介质 (57)摘要 本发明实施例提供一种散射校正方法、 成像 系统、 校正设备及可读存储介质， 涉及医疗影像 技术领域。 本发 明实施例在获取单次扫描中在预 设的各第一扫描角度下的第一投影图像以及在 预设的各第二扫描角度下的第二投影图像后， 通 过对各第一投影图像进行处理， 得到各第一投影 图像对应的第一散射分布图， 根据各第一散射分 布图， 确定各第二投影图像对应的第二散射分布 图， 然后根据各第一散射分布图对 各第一投影图 像进行散射校正， 以及根据各第二散射分布图对 各第二投影图像进行散射校正。 如此， 实现了在 单次扫描中完成投影图像的散射校正， 减少了扫 描时间和 辐射剂量。 权利要求书2页 说明书17页 附图4页 CN 114511648 A 2022.05.17 CN 114511648 A 1.一种散射校正方法， 其特 征在于， 所述方法包括： 获取单次扫描中在预设的各第一扫描角度下的第一投影图像以及在预设的各第二扫 描角度下的第二投影图像； 所述第一投影图像为在被阻挡阵列板遮挡下获取得到的投影图 像， 所述第二投影图像为在未被所述阻挡阵列板遮挡下获取 得到的投影图像； 对各所述第一投影图像进行处 理， 得到各 所述第一投影图像对应的第一散射分布图； 根据各所述第一散射分布图， 确定各 所述第二投影图像对应的第二散射分布图； 根据各所述第 一散射分布图对各所述第 一投影图像进行散射校正， 以及根据 各所述第 二散射分布图对各 所述第二投影图像进行散射校正。 2.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述获取单次扫描中在预设的各 第一扫描角度下的第一投影图像以及在预设的各第二扫描角度下的第二投影图像的步骤 包括： 若当前扫描角度为所述第一扫描角度， 控制所述阻挡阵列板移动至成像视野中， 获取 被所述阻挡阵列板遮挡的第一投影图像； 若当前扫描角度为所述第二扫描角度， 控制所述阻挡阵列板移动至成像视野外， 获取 未被所述阻挡阵列板遮挡的第二投影图像。 3.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述阻挡阵列板包括多个阻挡 柱， 所述第一投影图像中包括多个与各所述阻挡柱对应的散射采样点， 所述对各所述第一 投影图像进行处 理， 得到各 所述第一投影图像对应的第一散射分布图的步骤 包括： 针对每个所述第一投影图像， 获取 该第一投影图像中各 所述散射采样点的散射信号； 根据各所述散射采样点的散射信号， 在各所述散射采样点之间进行插值， 得到该第一 投影图像对应的第一散射分布图。 4.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述根据各所述第一散射分布 图， 确定各 所述第二投影图像对应的第二散射分布图的步骤 包括： 将各所述第 一扫描角度以及各所述第 二扫描角度进行排序， 根据排序后的各所述第 一 扫描角度以及各所述第二扫描角度， 确定每个所述第二扫描角度相邻的两个第一扫描角 度； 针对每个所述第 二扫描角度 下的第二投影图像， 根据该第 二扫描角度相邻的两个第 一 扫描角度下的第一投影图像对应的第一散射分布图， 确定得到该第二投影图像对应的第二 散射分布图。 5.根据权利要求4所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述根据 该第二扫描角度相邻的 两个第一扫描角度下的第一投影图像对应的第一散射分布图， 确定得到该第二投影图像对 应的第二散射分布图的步骤 包括： 以该第二扫描角度相邻的两个第一扫描角度下的第一投影图像对应的第一散射分布 图为目标散射分布图， 根据所述 目标散射分布图中各像素点的散射信号， 插值得到该第二 投影图像中各像素点的散射信号； 根据该第二投影图像中各像素点的散射信号， 得到该第 二投影图像对应的第 二散射分 布图。 6.根据权利要求1所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述根据 各所述第 一散射分布图 对各所述第一投影图像进 行散射校正， 以及根据各所述第二散射分布图对 各所述第二投影权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114511648 A 2图像进行散射校正的步骤 包括： 针对每个所述第 一投影图像， 将该第 一投影图像与该第 一投影图像对应的第 一散射分 布图进行差值计算， 以对该第一投影图像进行散射校正； 针对每个所述第 二投影图像， 将该第 二投影图像与该第 二投影图像对应的第 二散射分 布图进行差值计算， 以对该第二投影图像进行散射校正。 7.根据权利要求1 ‑6任一项所述的散射校正方法， 其特征在于， 所述根据 各所述第一散 射分布图对各 所述第一投影图像进行散射校正之后， 所述方法还 包括： 根据散射校正后的第 一投影图像中的射线信号， 对散射校正后的第 一投影图像中被遮 挡的区域进行插值。 8.一种成像系统， 其特 征在于， 包括： 机架： 成像源， 设置 于所述机架上； 成像器， 与所述成像源相对设置 于所述机架上； 阻挡阵列板， 设置 于所述成像源与所述成像 器之间； 校正设备， 与所述成像 器连接， 所述校正设备用于： 获取单次扫描中在预设的各第一扫描角度下的第一投影图像以及在预设的各第二扫 描角度下的第二投影图像； 所述第一投影图像为在被阻挡阵列板遮挡下获取得到的投影图 像， 所述第二投影图像为在未被所述阻挡阵列板遮挡下获取 得到的投影图像； 对各所述第一投影图像进行处 理， 得到各 所述第一投影图像对应的第一散射分布图； 根据各所述第一散射分布图， 确定各 所述第二投影图像对应的第二散射分布图； 根据各所述第 一散射分布图对各所述第 一投影图像进行散射校正， 以及根据 各所述第 二散射分布图对各 所述第二投影图像进行散射校正。 9.根据权利要求8所述的成像系统， 其特征在于， 所述成像系统还包括阵列板驱动装 置， 所述阵列板驱动装置分别与所述阻挡阵列板以及所述校正设备连接， 用于在所述校正 设备的控制下驱动所述阻挡阵列板移动； 若当前扫描角度为所述第 一扫描角度， 所述校正设备控制所述阵列板驱动装置驱动所 述阻挡阵列板移动至成像视野中， 以获取被所述阻挡阵列板遮挡的第一投影图像； 若当前扫描角度为所述第 二扫描角度， 所述校正设备控制所述阵列板驱动装置驱动所 述阻挡阵列板移动至成像视野外， 以获取 未被所述阻挡阵列板遮挡的第二投影图像。 10.一种校正设备， 其特征在于， 包括存储器、 处理器及存储在存储器上并可在处理器 上运行的计算机程序， 所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求 1至7任一项 所述的 散射校正方法。 11.一种可读存储介质， 其特征在于， 所述可读存储介质包括计算机程序， 所述计算机 程序运行时控制所述可读存储介质所在校正设备执行权利要求1至7任一项所述的散射校 正方法。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114511648 A 3