(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111602467.X (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人 上海精测半导体技 术有限公司 地址 201700 上海市青浦区徐泾镇双浜路 269、 299号1幢1、 3层 (72)发明人 张晓雷　张厚道　施耀明　 (74)专利代理 机构 上海恒锐佳知识产权代理事 务所(普通 合伙) 31286 代理人 黄海霞 (51)Int.Cl. G06F 30/20(2020.01) (54)发明名称 一种模型理论 光谱计算方法和装置 (57)摘要 本发明提供了一种模型理论光谱计算方法 和装置。 本申请的模型理论光谱计算方法， 包括： 建立样品形貌模型， 并建立XOZ平面坐标系； 获取 样品形貌模型在XOZ平面坐标系的平面轮廓； 在 平面轮廓上获取多个采样点， 并根据多个采样点 构成初始点集； 根据初始点集得到Z坐标分层值 集合； 根据Z坐标分层值集合计算理论光谱。 本申 请的模型理论光谱计算方法通过获取样品形貌 模型在XOZ平面坐标系的平面轮廓， 并记录平面 轮廓中的多个采样点， 根据多个采样点构成初始 点集， 根据初始点集的Z坐标值进行分层， 能够在 线形发生改变的地方对样品形貌模 型进行分层， 之后根据分层值进行理论光谱的计算， 在保证精 度的同时减少片层的划分数量， 能够提升理论光 谱计算的速度。 权利要求书3页 说明书10页 附图7页 CN 114329948 A 2022.04.12 CN 114329948 A 1.一种模型理论 光谱计算方法， 其特 征在于， 该 方法包括： 建立样品形貌模型， 并建立XOZ平面 坐标系； 获取所述样品形貌模型在所述XOZ平面 坐标系的平面轮廓； 在所述平面轮廓上获取多个采样点， 并根据多个采样点构成初始点 集； 根据所述初始点 集得到Z坐标分层值 集合； 根据所述Z坐标分层值 集合计算理论 光谱。 2.根据权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述平面轮廓包括 直线段和/或曲线段； 所述采样点包括所述直线段的端点和/或所述曲线段的端点及所述曲线段的间隔点， 所述曲线段的间隔点 通过以第一预设步长在所述曲线段 上获取。 3.根据权利要求1或2所述的方法， 其特征在于， 所述根据所述初始点集得到Z坐标分层 值集合， 包括： 根据所述初始点 集得到Z坐标粗分值 集合， 根据所述Z坐标粗分值 集合得到粗分片层； 对于各个所述 粗分片层， 以第二预设步长、 二分法或经验值分成若干细分片层； 根据各个所述细分片层获取Z坐标细分值集合， 将所述Z坐标粗分值集合和所述Z坐标 细分值集合合并得到所述Z坐标分层值 集合。 4.根据权利要求3所述的方法， 其特征在于， 根据各个所述细分片层获取Z坐标细分值 集合， 包括： 获取各个所述细分片层的四个顶点在所述平面坐标系的坐标， 所述细分片层包括沿Z 方向分布的上边线和下边线， 以及沿X方向分布的第一侧边线和第二侧边线， 分别计算各个 所述细分片层的第一侧边线的斜 率的绝对值和第二侧边线的斜 率的绝对值； 若两个所述 斜率的绝对值均大于第一阈值， 则舍弃 所述细分片层相应的所述顶点； 若至少一个所述斜率的绝对值小于或等于所述第 一阈值， 则将该所述细 分片层相应的 所述顶点作为细分采样点； 基于所述细分采样点的Z坐标值得到所述细分值 集合。 5.根据权利要求3所述的方法， 其特征在于， 根据各个所述细分片层获取Z坐标细分值 集合， 包括： 获取各个所述细分片层的四个顶点在所述平面坐标系的坐标， 所述细分片层包括沿Z 方向分布的上边线和下边线， 以及沿X方向分布的第一侧边线和第二侧边线， 以所述上边线 上的两个顶点分别做X方向的垂线， 所述垂线、 所述下边线， 所述第一侧边线和所述第二侧 边线形成两个三角形， 计算所述两个三角形的面积； 获取两个所述 三角形的面积中的较大值； 若所述较大值小于或等于第二阈值， 则舍弃 该所述细分片层相应的所述顶点； 若所述较大值大于所述第 二阈值， 则将该所述细 分片层相应的所述顶点作为细 分采样 点； 基于所述细分采样点的Z坐标值得到所述细分值 集合。 6.根据权利要求3所述的方法， 其特征在于， 根据 所述初始点集得到Z坐标粗分值集合， 包括： 将所述初始点集中的采样点以顺 时针或逆时针排序， 并计算所述初始点集中所有相邻 两个采样点的斜 率的绝对值；权　利　要　求　书 1/3 页 2 CN 114329948 A 2若所述斜率的绝对值小于或等于第三阈值， 或所述斜率的绝对值大于或等于第四阈 值， 则将该两个所述采样点作为 粗分采样点； 若所述斜率的绝对值大于所述第三阈值， 且小于所述第 四阈值， 则舍弃该两个所述采 样点； 基于所述 粗分采样点的Z坐标值得到所述Z坐标粗分值 集合。 7.一种模型理论 光谱计算装置， 其特 征在于， 该装置包括： 建模单元， 用于建立样品形貌模型， 并建立XOZ平面 坐标系； 获取单元， 用于获取所述样品形貌模型在所述XOZ平面坐标系的平面轮廓； 在所述平面 轮廓上获取多个采样点， 并根据多个采样点构成初始点 集； 计算单元， 用于根据所述初始点集得到Z坐标分层值集合， 根据所述Z坐标分层值集合 计算理论 光谱。 8.根据权利要求7 所述的装置， 其特 征在于， 所述平面轮廓包括 直线段和/或曲线段； 所述获取单元， 获取所述采样点包括所述直线段的端点和/或所述曲线段的端点及所 述曲线段的间隔点， 所述曲线段的间隔点 通过以第一预设步长在所述曲线段 上获取。 9.根据权利要求7或8所述的装置， 其特征在于， 所述计算单元根据 所述初始点集得到Z 坐标分层值 集合， 具体用于： 根据所述初始点 集得到Z坐标粗分值 集合， 根据所述Z坐标粗分值 集合得到粗分片层； 对于各个所述 粗分片层， 以第二预设步长、 二分法或经验值分成若干细分片层； 根据各个所述细分片层获取Z坐标细分值集合， 将所述Z坐标粗分值集合和所述Z坐标 细分值集合合并得到所述Z坐标分层值 集合。 10.根据权利要求9所述的装置， 其特征在于， 所述计算单元根据各个所述细分片层获 取Z坐标细分值 集合， 具体用于： 获取各个所述细分片层的四个顶点在所述平面坐标系的坐标， 所述细分片层包括沿Z 方向分布的上边线和下边线， 以及沿X方向分布的第一侧边线和第二侧边线， 分别计算各个 所述细分片层的第一侧边线的斜 率的绝对值和第二侧边线的斜 率的绝对值； 若两个所述 斜率的绝对值均大于第一阈值， 则舍弃 所述细分片层相应的所述顶点； 若至少一个所述斜率的绝对值小于或等于所述第 一阈值， 则将该所述细 分片层相应的 所述顶点作为细分采样点； 基于所述细分采样点的Z坐标值得到所述细分值 集合。 11.根据权利要求9所述的装置， 其特征在于， 所述计算单元根据各个所述细分片层获 取Z坐标细分值 集合， 具体用于： 获取各个所述细分片层的四个顶点在所述平面坐标系的坐标， 所述细分片层包括沿Z 方向分布的上边线和下边线， 以及沿X方向分布的第一侧边线和第二侧边线， 以所述上边线 上的两个顶点分别做X方向的垂线， 所述垂线、 所述下边线， 所述第一侧边线和所述第二侧 边线形成两个三角形， 计算所述两个三角形的面积； 获取两个所述 三角形的面积中的较大值； 若所述较大值小于或等于第二阈值， 则舍弃 该所述细分片层相应的所述顶点； 若所述较大值大于所述第 二阈值， 则将该所述细 分片层相应的所述顶点作为细 分采样 点；权　利　要　求　书 2/3 页 3 CN 114329948 A 3