(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222590487.6 (22)申请日 2022.09.29 (73)专利权人 徐州市晨创电子科技有限公司 地址 221000 江苏省徐州市铜山区三 堡街 道刁店村 (72)发明人 陈创　 (74)专利代理 机构 徐州苏亨知识产权代理事务 所(普通合伙) 32614 专利代理师 卜祥奎 (51)Int.Cl. B24B 29/02(2006.01) B24B 41/04(2006.01) B24B 41/06(2012.01) B24B 57/02(2006.01) B24B 57/00(2006.01) (54)实用新型名称 单晶硅片抛光工作台 (57)摘要 本实用新型提出一种单晶硅片抛光工作台， 包括台板、 支 撑架、 活动封堵机构和负压机构。 其 中， 台板安装在支撑架上， 台板上设置有多个负 压孔， 多个负压孔内分别安装有活动封堵机构， 台板的下面 设置有负压腔， 负 压腔与负压机构连 接； 活动封堵机构 包括活动封堵帽、 弹簧和支杆， 其中， 活动封堵帽套装在支杆上， 弹簧安装在活 动封堵帽与支杆之间； 负压机构 包括负压管和真 空泵， 负压管的一端与负压腔连通， 负压管的另 一端连接真空泵。 本实用新型实施例所提出的单 晶硅片抛光工作台， 通过负压吸附方式将单晶硅 片固定， 然后进行单面加工(如抛光)作业， 能够 避免使用夹具导致单晶硅片在加工固定中破损， 有利于提高单晶硅片的成品率。 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 CN 218137200 U 2022.12.27 CN 218137200 U 1.一种单晶硅片抛光工作台， 其特征在于， 包括： 台板、 支撑架、 活动封堵机构和负压机 构， 其中， 所述台板安装在所述支撑架上， 所述台板上设置有多个负压孔， 多个所述负压孔内分 别安装有所述活动封堵机构， 所述台板的下面设置有负压腔， 所述负压腔与所述负压机构 连接； 所述活动封堵机构包括活动封堵帽、 弹簧和支杆， 其中， 所述活动封堵帽套装在所述支 杆上， 所述弹簧 安装在所述活动封堵帽与所述支杆之间； 所述负压机构包括负压管和真空泵， 所述负压管的一端与所述负压腔连通， 所述负压 管的另一端连接所述真空泵。 2.根据权利要求1所述的单晶硅片抛光工作台， 其特征在于， 所述负压腔的负压腔壁以 预设角度与所述台板连接， 且所述负压腔远离所述台板的方向口径较小。 3.根据权利要求1所述的单晶硅片抛光工作台， 其特征在于， 所述负压腔的底部设置有 排放阀。 4.根据权利要求1所述的单晶硅片抛光工作台， 其特征在于， 所述台板的上面设置有挡 台， 所述挡台围绕所述台板上面 一周。 5.根据权利要求1所述的单晶硅片抛光工作台， 其特征在于， 所述支杆安装在支架上， 所述支架设置在所述负压腔内所述台板的下 方。 6.根据权利要求1所述的单晶硅片抛光工作台， 其特征在于， 所述负压管与 所述负压腔 连通的一端的上侧设置有 上导流板， 所述负压管与所述负压腔连通的一端的下侧设置有 下 导流板； 所述上导 流板以预设的角度向所述负压管外侧延伸； 所述下导 流板以预设的角度向所述负压管内侧延伸。 7.根据权利要求6所述的单晶硅片抛光工作台， 其特征在于， 所述上导流板的下端与 所 述下导流板的上端位于同一高度， 以及所述上导 流板与所述下导 流板相平行。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218137200 U 2单晶硅片抛光工作台 技术领域 [0001]本实用新型 涉及单晶硅片加工技 术领域， 尤其涉及一种单晶硅片抛光工作台。 背景技术 [0002]单晶硅片作为半导体领域重要的基体材料被使用越来越多， 在对单晶硅片进行加 工制造的过程中， 因其易碎的性质， 在 对单晶硅片进 行固定时通常采用夹具， 夹具容易导致 单晶硅片破损， 从而影响单晶硅片的成品率。 实用新型内容 [0003]本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述 技术中的技 术问题之一。 [0004]为此， 本实用新型的一个目的在于提出一种单晶硅片抛光工作 台， 通过负压吸附 方式将单晶硅片固定， 然后进 行抛光作业， 能够避免单晶硅片在加工固定中破损， 有利于提 高单晶硅片的成品率。 [0005]为达到上述目的， 本实用新型一方面实施例提出了一种单晶硅片抛光工作台， 包 括： 台板、 支撑架、 活动封堵机构和负压 机构。 [0006]其中， 所述台板安装在所述支撑架 上， 所述台板上设置有多个负压孔， 多个所述负 压孔内分别安装有所述活动封堵机构， 所述台板的下面设置有负压腔， 所述负压腔与所述 负压机构连接； 所述活动封堵机构包括活动封堵帽、 弹簧和支杆， 其中， 所述活动封堵帽套 装在所述支杆上， 所述弹簧安装在所述活动封堵帽与所述支杆之间； 所述负压机构包括负 压管和真空泵， 所述负压管 的一端与所述负压腔连通， 所述负压管 的另一端连接所述真空 泵。 [0007]根据本实用新型实施例提出的单晶硅片抛光工作 台， 在使用时， 真空泵工作抽 取 负压腔内的空气， 使负压腔产生负压环境， 将单 晶硅片放置在上述台板上将活动封堵帽压 下， 单晶硅片底面通过负压孔与负 压腔连通， 即单晶硅片的底面也具有负压环 境。 单晶硅片 上面受到的正常大气压的压力， 底面受到低于大气压的负压， 单 晶硅片与台板之间的摩擦 力较大， 从而达到了在不用夹具的情况下， 将单晶硅片固定的效果， 能够 避免单晶硅片在加 工固定中破损， 有利于提高单晶硅片的成品率。 [0008]另外， 根据本实用新型上述实施例提出的单晶硅片抛光工作台还可以具有如下附 加的技术特征： [0009]进一步地， 所述负压腔的负压腔壁以预设角 度与所述台板连接， 且所述负压腔远 离所述台板的方向口径较小。 [0010]进一步地， 所述负压腔的底部设置有排 放阀。 [0011]进一步地， 所述台板的上面设置有挡台， 所述挡台围绕所述台板上面 一周。 [0012]进一步地， 所述支杆安装在支架上， 所述支架设置在所述负压腔内所述台板 的下 方。 [0013]进一步地， 所述负压管与所述负压腔连通的一端的上侧 设置有上导流板， 所述负说　明　书 1/4 页 3 CN 218137200 U 3