ICS81.040.10 Q33 JC 备案号：42055—2013 中华人民共和国建材行业标准 JC/T2201-2013 镀膜玻璃用靶材 Targetsforcoatedglass 2013-11-12发布 2014.-03-01实施 中华人民共和国工业和信息化部 发布 JC/T2201—2013 前 言 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准由中国建筑材料联合会提出。 本标准由全国建筑用玻璃标准化技术委员会(SAC/TC255)归口。 本标准起草单位：中国建筑玻璃与工业玻璃协会、上海贺利氏工业技术材料有限公司、贝卡尔特（江 阴)镀膜工业有限公司、中国南玻集团股份有限公司、常州亚玛顿光伏玻璃有限公司、上海子创镀膜技 术有限公司、北京安泰科技有限公司、东莞市欧莱溅射靶材有限公司、北京星星原特种材料技术开发有 限公司。 本标准主要起草人：温艳玲、张佰恒、李会、蘭裕平、许武毅、夏黎海、潘庆春、姜海、赵子东、 文宏福、林金锡、丁孝昌。 本标准为首次发布。 I JC/T2201—2013 镀膜玻璃用靶材 1范围 本标准规定了镀膜玻璃用靶材的术语和定义、分类、要求、检验方法、检验规则以及标志、包装、 运输和贮存等。 本标准适用于建筑用真空磁控溅射镀膜玻璃使用的靶材，其他镀膜玻璃用靶材可参照使用。 2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。 凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T191包装储运图示标志 GB/T1031产品几何技术规范（GPS）表面结构轮廊法表面粗糙度参数及其数值 GB/T1410固体绝缘材料体积电阻率和表面电阻率试验方法 GB/T1423贵金属及其合金密度的测试方法 GB/T4372（所有部分）直接法氧化锌化学分析方法 GB/T4472-2011化工产品密度、相对密度的测定 GB/T4698（所有部分）海绵钛、钛及钛合金化学分析方法 GB/T4702（所有部分）金属铬化学分析方法 GB/T5163烧结金属材料(不包括硬质合金）可渗性烧结金属材料密度、含油率和开孔率的测定 GB/T6679—2003固体化工产品采样通则 GB/T7234产品几何量技术规范(GPS)圆度测量术语、定义及参数 GB/T7235产品几何量技术规范(GPS)评定圆度误差的方法半径变化量测量 GB/T8170—2008数值修约规则与极限数值的表示和判定 GB/T8647(所有部分）镍化学分析方法 GB/T10574（所有部分）锡铅焊料化学分析方法 GB/T11067（所有部分）银化学分析方法 GB/T11170不锈钢多元素含量的测定火花放电原子发射光谱法（常规法) GB/T11336直线度误差检测 GB/T11337 平面度误差检测 GB/T12689（所有部分）锌及锌合金化学分析方法 GB/T14265金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则 GB/T19591纳米二氧化钛 GB/T20510-2006氧化铟锡靶材 GB/T20967无损检测目视检测总则 GB/T20975（所有部分） 铝及铝合金化学分析方法 GB/T23364所有部分） 高纯氧化铟化学分析方法 GB/T25951.3镍及镍合金术语和定义第3部分：加工产品和铸件 JC/T2201—2013 YB/T065硅铝合金 YB/T178（所有部分） 硅铝合金、硅锁铝合金 3术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3.1 磁控溅射镀膜 magnetronsputteringcoating 真空环境中，在电场及磁场的作用下，靶材被气体辉光放电产生的荷能离子轰击，粒子从其表面被 溅射出，在镀膜基体表面沉积或反应成膜的工艺过程。 3. 2 靶材sputteringtarget 被高速荷能离子轰击的，可在镀膜基体表面沉积或反应成膜的固体材料。 3. 3 靶材密度targetdensity 每单位体积靶材的质量，单位为克每立方厘米（g/cm)。 3. 4 靶材理论密度targettheoreticaldensity 单一结构材料的理论密度为结晶学密度，合金或混合物靶材的理论密度通过各组元的理论密度及其 在合金或混合物中所占比例计算得出，单位为克每立方厘米（g/cm）。 3. 5 靶材相对密度targetrelativedensity 靶材密度与理论密度的比值。 3. 6 失氧率deoxygenationcoefficient 氧化物靶材脱氧的百分率。 失氧率=琴 理论含氧量 3. 7 熔铸靶材castingtarget 熔化后浇注入铸型中冷却成型，经后续加工制成的靶材。 3.8 喷涂靶材sprayingtarget 将原材料加热至熔融或半熔融高塑性状态，在外加气体或焰流本身的推力下，雾化并高速喷射向衬 管或衬板表面冷凝沉积制成的涂层靶材。 3. 9 粉末冶金靶材powdermetallurgytarget 将金属或非金属粉末成型、烧结，再加工制成的靶材。 3. 10 粘结靶材bondingtarget 利用低熔点金属或有机材料在衬管/衬板上粘结的靶材。 2 JC/T2201—2013 4分类 4.1 按溅射面的形状，靶材可分为旋转靶材（柱状靶材）、平面靶材和异型靶材。 -旋转靶材有直靶和骨状靶两种形状； 平面靶材包括矩形平面靶和圆形平面靶； 异型靶材为不规则溅射面的靶材。 4.2按靶材的主要成分，可分为金属靶材和非金属靶材。其中，非金属靶材包括氧化物靶材和非氧化 物靶材。 4.3按靶材的成型工艺，可分为熔铸靶、喷涂靶和粉末冶金靶。 4.4按靶材的支撑结构型式，可分为有衬管/衬板型和无衬管/衬板型（又称整体型)两种。 5要求 5.1化学成分 5.1.1 常用靶材的种类、纯度、主要成分、金属杂质元素含量和非金属杂质元素含量应符合表1的规定。 表1 常用靶材的化学成分 金属杂质元素含量 靶材种类 非金属杂质元素含量 纯度 主要成分 ≤μg/g ≤ug/g 化学成型 ≥wt% wt% Pb Fe Ni 其他 总和 PO Sr Al Si N 其他 式 防法 Cu ZnAl熔铸 99.90 Zn-(2±0.5)%AI 250 200 500 300 - 300 - - 一 1000 - - ZnAl喷涂 99.90 Zn-(2±1. 0)%AI 50 250 150 150 - - 一 1000|60001 1200 - ZnSn熔铸 99.90 Zn-(50±2.0)%Sn 250 200 300 500 - 1000 - - Zn-(15±2.0)%Sn ZnSn喷涂 99.90 150 250 100 150 Bi≤60 1000|5000 500 - Zn-(50±3.5)%Sn Co≤400 C≤200 NiCr熔铸 99.80 Ni-(20±1.5)%Cr 800 400 250 800 Mg≤200 2000300 100 Mo≤200 NiV熔铸 99.80Ni-(6.5~8.0) %V 500 100 100 240 2000 100 300 (AI+V+Sn +Mo+Ni+Cr C≤800 Ti 熔铸99.40 Ti 5000 10001000100010001000 +Mn+Zr+|6000|4000|500 H≤150 Cu+Si+Y) ≤4000 粉末 C≤300 Cr 99.80 Cr 800 500 600 2000|10002000 冶金 S≤200 Mn≤500 Mg≤500 AI熔铸99.50 IV 4000 500 2500 5000 Zn≤500 Ti≤300 Bi≤10 Ag熔铸99.95 Ag 150 20 250 500 Sb≤20 熔铸99.90 Sn Sn 100 700 1000 Bi≤50 JC/T2201—2013 4分类 4.1 按溅射面的形状，靶材可分为旋转靶材（柱状靶材）、平面靶材和异型靶材。 -旋转靶材有直靶和骨状靶两种形状； 平面靶材包括矩形平面靶和圆形平面靶； 异型靶材为不规则溅射面的靶材。 4.2按靶材的主要成分，可分为金属靶材和非金属靶材。其中，非金属靶材包括氧化物靶材和非氧化 物靶材。 4.3按靶材的成型工艺，可分为熔铸靶、喷涂靶和粉末冶金靶。 4.4按靶材的支撑结构型式，可分为有衬管/衬板型和无衬管/衬板型（又称整体型)两种。 5要求 5.1化学成分 5.1.1 常用靶材的种类、纯度、主要成分、金属杂质元素含量和非金属杂质元素含量应符合表1的规定。 表1 常用靶材的化学成分 金属杂质元素含量 靶材种类 非金属杂质元素含量 纯度 主要成分 ≤μg/g ≤ug/g 化学成型 ≥wt% wt% Pb Fe Ni 其他 总和 PO Sr Al Si N 其他 式 防法 Cu ZnAl熔铸 99.90 Zn-(2±0.5)%AI 250 200 500 300 - 300 - - 一 1000 - - ZnAl喷涂 99.90 Zn-(2±1. 0)%AI 50 250 150 150 - - 一 1000|60001 1200 - ZnSn熔铸 99.90 Zn-(50±2.0)%Sn 250 200 300 500 - 1000 - - Zn-(15±2.0)%Sn ZnSn喷涂 99.90 150 250 100 150 Bi≤60 1000|5000 500 - Zn-(50±3.5)%Sn Co≤400 C≤200 NiCr熔铸 99.80 Ni-(20±1.5)%Cr 800 400 250 800 Mg≤200 2000300