(19)国家知识产权局
(12)发明 专利申请
(10)申请公布号
(43)申请公布日
(21)申请 号 202210600857.1
(22)申请日 2022.05.30
(71)申请人 机械科学研究院浙江分院有限公司
地址 310000 浙江省杭州市上城区中河中
路175号
(72)发明人 陈星 许岚 计亚平 冯泽舟
(74)专利代理 机构 杭州杭诚专利事务所有限公
司 33109
专利代理师 王鑫康
(51)Int.Cl.
G01B 11/06(2006.01)
G01N 21/01(2006.01)
G01N 21/21(2006.01)
(54)发明名称
一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测
量系统和方法
(57)摘要
本发明公开了一种用于集成电路制造中的
集成式膜厚测量系统和方法, 包括用于将线偏振
光聚焦在晶圆表面的待测点的入射光路和用于
获取光谱以计算被测样品表面的椭偏参数的透
射光路, 还包括在透射光路分支出的两条用于通
过折射获取额外光谱以计算被测样品表面的椭
偏参数的折射光路。 上述技术方案采用非常规光
学系统, 在线性偏振光经过晶圆反射后, 反射光
束被后续的准直系统准直, 通过分光镜的反射和
透射, 分别进入不同的验偏器, 然后被相应光路
的聚焦系统聚焦相应的光谱仪的入射狭缝上, 从
而同时得到三个光谱, 通过适当选择这三个验偏
器的角度, 可 以解出被测样品表面的椭偏参数,
降低了空间要求, 大 大提高计算效率。
权利要求书2页 说明书4页 附图1页
CN 114910007 A
2022.08.16
CN 114910007 A
1.一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统, 其特 征在于, 包括:
入射光路, 用于将线偏振光聚焦 在晶圆表面的待测点;
透射光路, 用于获取光谱以计算被测样品表面的椭偏参数;
折射光路, 用于通过折 射获取额外光谱以计算被测样品表面的椭偏参数。
2.根据权利要求1所述的一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法, 其
特征在于, 所述入射 光路包括:
光源(1), 用于提供自然光;
光源小孔(12), 用于控制晶圆上测量 光斑的形状和尺寸;
准直系统和聚焦系统, 用于根据光谱范围的需求选择透射式或反射式;
起偏器(2), 用于从自然光中获得偏振光;
光源(1)、 光源小孔(12)、 起偏器(2)、 准直系统和第一聚焦系统(13)、 待测样品(11)沿
光路依次设置 。
3.根据权利要求1所述的一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法, 其
特征在于, 所述透射光路包括 沿光路依次设置的第二聚焦系统(14)、 入射角选择孔径(15)、
第三验偏器(8)和第三 光谱仪(5)。
4.根据权利要求3所述的一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法, 其
特征在于, 所述折射光路包括第一折射光路和第二折射光路, 所述第一折射光路包括沿光
路依次设置的第一分光镜(9)、 第一验偏器(6)和第一光谱仪(3), 所述第二折射光路沿光路
依次设置的第二分光镜(10)、 第二验偏器(7)和第二 光谱仪(4)。
5.根据权利要求4所述的一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法, 其
特征在于, 所述第一分光镜(9)、 第二分光镜(10)设置在射角选择孔径(15)与第三验偏器
(8)之间。
6.根据权利要求1所述的一种用于集成 电路制造中的集成式膜厚测量系统的测量方
法, 其特征在于, 包括以下步骤:
S1进行入射 光路和透射 光路设置;
S2进行折 射光路设置;
S3计算待测样品表面的椭偏参数。
7.根据权利要求6所述的一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法, 其
特征在于, 所述步骤S1设置入射光路使线偏振光被聚焦光学系统聚焦在晶圆表面的待测
点, 设置起偏器(2)的角度
并且设置入射角选择孔径(15), 设置第三验偏器(8)的角
度
8.根据权利要求7所述的一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法, 其
特征在于, 所述步骤S2设置第一分光镜(9)和第二分光镜(10)在透射光路中的位置, 并设置
折射光路中第一验偏器(6)的角度A1=0, 设置第二验偏器(7)的角度
9.根据权利要求8所述的一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法, 其
特征在于, 所述 步骤S3具体包括:权 利 要 求 书 1/2 页
2
CN 114910007 A
2其中,
为第一分光镜(9)透射系数的s分量;
为第一分光镜(9)反射系数的s分
量;
为第一分光镜(9)表面透射系数的p分量和s分量的相位差; χBS1为第一分光镜(9)p
分量的的透射系数和s分量的透射系数的模之比;
是第二个分光镜透射系数的s分量;
ΔBS2为第二分光镜(10)表面反射系数的p分量和s 分量的相位差; P为 起偏器(2)的角度;
I1(A1=0): 当第一验偏器(6)A1角度为0度时, 第一 光谱仪(3)上的光强;
当第二验偏器(7)A 2角度为45度时, 第二 光谱仪(4)上的光强;
当第三验偏器(8)A3角度为90度时, 第三 光谱仪(5)上的光强。权 利 要 求 书 2/2 页
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专利 一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法
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