(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222291365.7 (22)申请日 2022.08.29 (73)专利权人 余姚市德研五金 科技有限公司 地址 315400 浙江省宁波市余 姚市朗霞街 道欣朗路8 8号 (72)发明人 谢国滨　 (74)专利代理 机构 宁波奇铭知识产权代理事务 所(普通合伙) 33473 专利代理师 李鑫 (51)Int.Cl. B24B 41/04(2006.01) B24B 29/00(2006.01) B24B 47/22(2006.01) (54)实用新型名称 可调节打磨压力的抛光盘 (57)摘要 本实用新型公开了可调节打磨压力的抛光 盘， 包括抛光盘主体， 所述抛光盘主体一端设置 有抛光垫， 还包括有活动圆板， 所述活动圆板用 于连接抛光盘主体与抛光垫； 辅助组件， 所述辅 助组件位于所述抛光盘主体上， 利用所述辅助组 件可带动所述活动圆板相对所述抛光盘主体移 动， 通过程序精确控制油泵工作抽取液压油并输 送至圆柱槽内， 从而推动活塞柱移动， 进而推动 活动圆板移动， 从而带动抛光垫移动紧压被抛光 物品， 从而自由的调节抛光垫压紧打磨物品的压 力， 进而使得抛光压力可变， 同时提高抛光效果， 从而避免在部分区域抛光不足而在部分区域出 现过渡抛光的问题。 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 CN 217914747 U 2022.11.29 CN 217914747 U 1.可调节打磨压力的抛光盘， 包括抛光盘主体 （1） ， 所述抛光盘主体 （1） 一端设置有抛 光垫 （11） ， 其特征在于： 还包括有活动圆板 （2） ， 所述活动圆板 （2） 用于连接抛光盘主体 （1） 与抛光垫 （1 1） ； 辅助组件 （3） ， 所述辅助组件 （3） 位于所述抛光盘主体 （1） 上， 利用所述辅助组件 （3） 可 带动所述活动圆板 （2） 相对所述抛光盘主体 （1） 移动。 2.根据权利要求1所述的可调节打磨压力的抛光盘， 其特征在于： 所述辅助组件 （3） 包 括开设在所述抛光盘主体 （1） 上的导向孔 （31） ， 所述活动圆板 （2） 一侧设置有导向柱 （32） ， 且所述导向柱 （32） 一端位于所述 导向孔 （31） 内， 用于导向限位所述活动圆板 （2） 移动； 所述抛光盘主体 （1） 上开设有圆柱槽 （33） ， 且所述活动圆板 （2） 一侧设置有在所述圆柱 槽 （33） 内移动的活塞柱 （34） ， 所述抛光盘主体 （1） 内设置有充油组件 （35） ， 利用所述充油组 件 （35） 向所述圆柱槽 （3 3） 内充入液压油， 以使所述活动圆板 （2） 移动。 3.根据权利要求2所述的可调节打磨压力的抛光盘， 其特征在于： 所述充油组件 （35） 包 括等距均匀开设在所述抛光盘主体 （1） 上的多个导液孔 （36） ， 所述抛光盘主体 （1） 上开设有 环形槽 （37） ， 且多个所述 导液孔 （3 6） 两端分别与所述圆柱槽 （3 3） 以及环形槽 （37） 导 通； 所述环形槽 （37） 内设置有空心圆环 （38） ， 所述空心圆环 （38） 上设置有导液管 （39） ， 所 述导液管 （39） 与液压油供 给装置连接 。 4.根据权利要求3所述的可调节打磨压力的抛光盘， 其特征在于： 所述导向孔 （31） 开设 有多个， 且等距均匀位于所述抛光盘主体 （1） 上。 5.根据权利要求4所述的可调节打磨压力的抛光盘， 其特征在于： 所述抛光垫 （11） 与所 述活动圆板 （2） 采用可拆连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217914747 U 2可调节打磨压力的抛光盘 技术领域 [0001]本实用新型 涉及抛光盘技 术领域， 具体为可调节打磨压力的抛光盘。 背景技术 [0002]抛光盘用来给物体打磨抛光， 分为好多种， 有水晶抛光盘， 羊毛抛光盘， 绒布抛光 盘等， 根据硬度不同， 可以根据需要选择， 同时在抛光时， 电动机接通电源起动后， 带动抛光 盘旋转， 抛光盘上的抛光织物与待 抛光的物品接触进 行抛光， 为了取得良好的抛光效果， 一 般会用手对物品施加压力， 使得物品紧贴在转动的抛光盘上进行 抛光。 [0003]但现有技术中的抛光盘通常为单体结构， 即抛光织物粘贴在单一的抛光盘上， 在 需要向抛光盘施加压力时， 抛光盘的整体都受到同样的压力， 但在很多应用中， 希望能够在 不同的区域 获得不同的压力， 以使 得抛光效果更佳， 如果使用单一压力， 可能在部 分区域抛 光不足而在部分区域出现过度抛光， 为此， 我们提出 可调节打磨压力的抛光盘。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的在于提供可调节 打磨压力的抛光盘， 以解决上述背景技术中提 出的问题。 [0005]为实现上述目的， 本 实用新型提供如下技术方案： 可调节打磨压力的抛光盘， 包括 抛光盘主体， 所述抛光盘主体一端设置有 抛光垫， 还包括有活动圆板， 所述活动圆板用于连 接抛光盘主体与抛光垫； [0006]辅助组件， 所述辅助组件位于所述抛光盘主体上， 利用所述辅助组件可带动所述 活动圆板相对所述抛光盘主体移动， 区别于 现有技术， 在实际使用过程中， 通过程序 精确控 制油泵工作抽取液压油并输送至圆柱槽内， 从而推动活塞柱移动， 进而推动活动圆板移动， 从而带动抛光垫移动紧压被抛光物品， 从而自由的调节抛光垫压紧打磨物品的压力， 进而 使得抛光压力可变， 同时提高抛光效果， 从而避免在部分区域抛光不足而在部分区域出现 过渡抛光的问题。 [0007]作为优选， 所述辅助组件包括开设在所述抛光盘主体上的导向孔， 所述活动圆板 一侧设置有导向柱， 且所述导向柱一端位于所述导向孔内， 用于导向限位所述活动圆板移 动； [0008]所述抛光盘主体上开设有圆柱槽， 且所述活动圆板一侧设置有在所述圆柱槽内移 动的活塞柱， 所述抛光盘主体内设置有充油组件， 利用所述充油组件向所述圆柱槽内充入 液压油， 以使所述活动圆板移动。 [0009]作为优选， 所述充油组件包括等距均匀开设在所述抛光盘主体上的多个导液孔， 所述抛光盘主体上开设有环形槽， 且多个所述导液孔两端分别与所述圆柱槽以及环形槽导 通； [0010]所述环形槽内设置有空心圆环， 所述空心圆环上设置有导液管， 所述导液管与液 压油供给装置连接 。说　明　书 1/3 页 3 CN 217914747 U 3