(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221959479.8 (22)申请日 2022.07.26 (73)专利权人 科达制造股份有限公司 地址 528313 广东省佛山市顺德区陈村镇 广隆工业园环镇西路1号 (72)发明人 吴锐明　袁金波　 (74)专利代理 机构 广州三环 专利商标代理有限 公司 44202 专利代理师 肖郁丰 (51)Int.Cl. B24B 29/02(2006.01) B24B 41/02(2006.01) B24B 41/04(2006.01) B24B 47/04(2006.01) B24B 47/22(2006.01) (54)实用新型名称 一种抛光横梁机构 (57)摘要 本实用新型公开了一种抛光横梁机构， 包括 支撑组件、 摆动组件、 横 梁组件、 磨头组件和驱动 组件， 支撑组件上设有第一导轨， 摆动组件上设 有第二导轨， 定义第一导轨所在的直线延伸方向 为横向， 第二导轨所在的直线延伸方向为纵向， 摆动组件能够沿支撑组件进行横向摆动， 驱动组 件驱动横梁组件纵向运动， 横梁组件能够同时带 动摆动组件进行纵向摆动， 以使抛光磨头的磨削 范围覆盖整个陶瓷砖表面， 提升陶瓷砖的加工精 度， 提升陶瓷砖的成型质量， 且横向和纵向移动 的速度与频率能够进行分别设定， 这样， 磨头的 运动轨迹就可调控至均匀覆 盖整个陶瓷砖， 使 得 本实用新型中的抛光横梁机构能够适配多种尺 寸的陶瓷砖， 扩大 可加工的产品范围。 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 CN 217914681 U 2022.11.29 CN 217914681 U 1.一种抛光横梁机构， 其特 征在于， 包括： 支撑组件(1)， 所述支撑组件(1)上设有第一 导轨(132)； 摆动组件(2)， 所述摆动组件(2)与所述支撑组件(1)活动连接， 所述摆动组件(2)可沿 所述第一 导轨(132)移动； 横梁组件(3)， 所述横梁组件(3)与所述摆动组件(2)活动连接， 所述摆动组件(2)上设 有第二导轨(25)， 所述横梁组件(3)可沿所述第二 导轨(25)滑动； 所述第一 导轨(132)与所述第二 导轨(25)相互垂直设置 。 2.根据权利要求1所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 还包括磨头组件(5)， 所述磨 头组件(5)活动连接 于所述横梁组件(3)。 3.根据权利要求1所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 所述摆动组件(2)包括滑动 板(21)， 所述滑动板(21)与所述第一 导轨(132)滑动连接 。 4.根据权利要求3所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 所述第一导轨(132)上嵌设 有防护罩(131)， 所述防护罩(131)的尺寸与所述滑动板(21)的尺寸相适配， 以免出现碰撞 干涉。 5.根据权利要求1所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 所述支撑组件(1)包括侧板 (12)， 所述侧板(12)上对应所述第一导轨(132)的位置设有齿条(14)， 所述摆动组件(2)沿 所述第一 导轨(132)和所述齿条(14)滑动。 6.根据权利要求5所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 所述摆动组件(2)包括传动 轴(22)， 所述传动轴(22)的两端分别连接齿轮(24)， 所述齿轮(24)与所述齿条(14)啮合连 接。 7.根据权利要求6所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 所述摆动组件(2)还包括第 一减速机(23)， 所述第一减速 机(23)固定设于所述横梁组件(3)； 所述传动轴(2 2)穿设于所述第一减速 机(23)且与所述第一减速 机(23)传动连接 。 8.根据权利要求1所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 还包括驱动组件(4)， 所述驱 动组件(4)包括第二减速 机(41)； 所述横梁 组件(3)包括支撑架(33)， 所述支撑架(33)的一端与所述摆动组件(2)固定连 接， 另一端与所述第二减速 机(41)固定连接 。 9.根据权利要求8所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 所述横梁组件(3)还包括横 梁本体(31)， 所述驱动组件(4)包括导杆(44)， 所述导杆(44)与所述横梁本体(31)活动连 接。 10.根据权利要求9所述的一种抛光横梁机构， 其特征在于： 所述驱动组件(4)包括偏心 轴(42)， 所述偏心轴(42)的一端与所述减速机传动连接， 另一端与所述导杆(44)固定连接， 以驱动所述横梁本体(31)沿所述第二 导轨(25)往复移动。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217914681 U 2一种抛光横梁机构 技术领域 [0001]本实用新型 涉及陶瓷抛光设备技 术领域， 尤其涉及一种抛光横梁机构。 背景技术 [0002]目前的陶瓷抛光技术大多采用磨头单向往复摆动对陶瓷砖进行加工， 陶瓷砖的线 速度越快， 将会造成局部漏抛的面积越 大， 且中间部 分存在重复抛磨， 进而导致陶瓷砖表 面 抛磨不均匀， 极大地影响了陶瓷砖的加工精度， 降低了陶瓷砖的成型质量。 实用新型内容 [0003]为了克服上述现有技术所述的至少一种缺陷， 本实用新型提供一种能够同时进行 横向和纵向摆动以使陶瓷砖表面均匀抛磨的抛光横梁机构。 [0004]本实用新型为 解决其问题所采用的技 术方案是： [0005]一种抛光横梁机构， 包括： [0006]支撑组件， 所述支撑组件上设有第一 导轨； [0007]摆动组件， 所述摆动组件与所述支撑组件活动连接， 所述摆动组件可沿所述第一 导轨移动； [0008]横梁组件， 所述横梁组件与所述摆动组件活动连接， 所述摆动组件上设有第二导 轨， 所述横梁组件可沿所述第二 导轨滑动； [0009]所述第一 导轨与所述第二 导轨相互垂直设置 。 [0010]通过如此设置， 定义第一导轨所在的直线延伸方向为横向， 第二导轨所在的直线 延伸方向为纵向， 摆动组件能够沿支撑组件进行横向摆动， 横梁组件能够同时带动摆动组 件进行纵向摆动， 以使 抛光磨头的磨削范围覆盖整个陶瓷砖表面， 提升陶瓷砖的加工精度， 提升陶瓷砖的成型质量， 且横向和纵向移动的速度与频率能够进 行分别设定， 这样， 磨 头的 运动轨迹就可调控至均匀覆盖整个陶瓷砖， 使得本实用新型中的抛光横梁机构能够适配多 种尺寸的陶瓷砖， 扩大 可加工的产品范围。 [0011]根据一种优选实施方式， 还包括磨头组件， 所述磨头组件活动连接于所述横梁组 件。 [0012]根据一种优选实施方式， 所述摆动组件包括滑动板， 所述滑动板与所述第一导轨 滑动连接 。 [0013]根据一种优选实施方式， 所述第一导轨上嵌设有防护罩， 所述 防护罩的尺寸与所 述滑动板的尺寸相适配， 以免出现碰撞干涉。 [0014]通过如此设置， 防护罩能够有效地保护第一导轨， 以免冷却水或陶瓷砖的磨屑进 入第一导轨。 [0015]根据一种优选实施方式， 所述支撑组件包括侧板， 所述侧板上对应所述第一导轨 的位置设有 齿条， 所述摆动组件沿所述第一 导轨和所述齿条滑动。 [0016]根据一种优选实施方式， 所述摆动组件包括传动轴， 所述传动轴的两端分别连接说　明　书 1/4 页 3 CN 217914681 U 3