(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210699891.9 (22)申请日 2022.06.20 (71)申请人 铜仁学院 地址 554300 贵州省铜仁市碧江区川硐办 事处教育园区启航路238号 (72)发明人 徐路　胡波　肖乔英　罗滕　 (74)专利代理 机构 杭州橙知果专利代理事务所 (特殊普通 合伙) 33261 专利代理师 李品 (51)Int.Cl. B08B 3/08(2006.01) B08B 3/10(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种次锰清洗装置 (57)摘要 本发明公开了一种次锰清洗装置， 包括： 清 洗池， 设有一用于容纳待清洗次锰和清洗液的清 洗空间； 推浪板， 用于推动清洗池内的清洗液往 第一预设方向流动； 防浪墙， 用于封闭清洗空间； 防浪墙随清洗池内的水流变化至少具有将水流 导向清洗空间内的清洗状态、 将 部分水流从清洗 空间内排出的除污状态和将清洗空间内的水流 全部排出的排水状态； 本发明能够提升对次锰的 清洗效果， 避免对次锰造成二次污染。 权利要求书1页 说明书7页 附图14页 CN 115090601 A 2022.09.23 CN 115090601 A 1.一种次锰清洗装置， 包括： 清洗池， 设有一用于容纳待清洗次锰和清洗液的清洗空间； 推浪板， 用于推动所述清洗池内的清洗液往第一预设方向流动； 防浪墙， 用于 封闭所述清洗空间； 其特征在于： 所述防浪墙随所述清洗池内的水流变化至少具有将水流导向所述清洗空间内的清洗 状态、 将部 分水流从所述清洗空间内排出的除污状态和将所述清洗空间内的水流全部排出 的排水状态。 2.根据权利要求1所述的次锰清洗装置， 其特 征在于： 还 包括： 载料盒， 设有一用于放置待清洗次锰的容纳空间； 所述载料盒侧壁上设有 多个供水流通过的通水孔。 3.根据权利要求1所述的次锰清洗装置， 其特 征在于： 还 包括： 推浪动力件， 设于所述清洗池一端； 支撑架， 用于放置所述推浪动力件； 所述推浪板设于所述推浪动力件上。 4.根据权利要求2所述的次锰清洗装置， 其特 征在于： 还 包括： 若干第一 导流块， 设于所述载 料盒底部； 调整件， 用于改变所述第一 导流块在所述载 料盒内的位置 。 5.根据权利要求4所述的次锰清洗装置， 其特征在于： 所述第 一导流块两侧设有第 一导 流面， 两端设有第二 导流面。 6.根据权利要求1所述的次锰清洗装置， 其特 征在于： 所述防浪墙包括： 第一挡板， 设于所述清洗池内； 第二挡板， 设于所述第一挡板一侧； 所述第二挡板上设有导 流部。 7.根据权利要求6所述的次锰清洗装置， 其特征在于： 所述第 一挡板和所述清洗池构 成 沿第二预设方向的滑动连接， 所述第二挡板和所述清洗池构成沿所述第二预设方向的滑动 连接。 8.根据权利要求1所述的次锰清洗装置， 其特 征在于： 所述防浪墙包括： 第三挡板， 设于所述清洗池内； 第二导流块， 转动连接 于所述第三挡板顶部 。 9.根据权利要求8所述的次锰清洗装置， 其特征在于： 所述清洗池底部设有第一凹槽， 所述第三挡板转动连接 于所述第一凹槽内。 10.根据权利要求8所述的次锰清洗装置， 其特征在于： 所述第 三挡板上设有第 一扭簧， 所述第二 导流块上设有第二扭簧。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115090601 A 2一种次锰清洗装 置 技术领域 [0001]本发明属于次锰回收技 术领域， 尤其是 涉及一种次锰清洗装置 。 背景技术 [0002]在电解生产金属锰过程中， 锰的实收率一般在95％左右， 其损失包括进入阳极泥 中的损失、 水洗的剥离损失、 起壳剥离锰、 隔膜布上毛次锰及随同溶液跑、 冒、 滴、 漏等损失。 通常将毛次锰和落地锰称为次锰。 毛次锰是从隔膜布上敲下来的锰， 含有渣滓、 硫胺结晶 等。 落地锰是冲洗极板、 脱硫、 运输及剥离过程中从极板上脱落下来的落到地面上的锰。 由 于落地锰含有硫胺及其 他杂质， 次锰如果 不提纯和清洗， 会因其质量差， 不能销售。 [0003]次锰在刚放入到清洗液中时对次锰的清洗效果最好， 随着清洗 的进行， 清洗液中 混入从次锰上掉落的杂质， 此时的清洗液已呈浑浊状态， 再次对次锰清洗时浑浊 的清洗液 容易对次锰造成二次污染， 污水 无法及时排出， 影响对次锰的清洗效果。 发明内容 [0004]本申请的内容部分用于以简要的形 式介绍构思， 这些构思将在后面的具体实施方 式部分被详细描述。 本申请的内容部分 并不旨在标识要求保护的技术方案的关键特征或必 要特征， 也不旨在用于限制所要求的保护的技 术方案的范围。 [0005]本发明为了克服现有技术的不足， 提供一种次锰清洗装置。 为了实现上述目的， 本 发明采用以下技术方案： 一种次锰清洗装置， 包括： 清洗池， 设有一用于容纳待清洗次锰和 清洗液的清洗空间； 推浪板， 用于推动清洗池内的清洗液往第一预设方向流动； 防浪墙， 用 于封闭清洗空间； 防浪墙随清洗池内的水流变化至少具有将水流导向清洗空间内的清洗状 态、 将部分水流从清洗空间内排出的除污状态和将清洗空间内的水流全部排出的排水状 态。 [0006]进一步的， 次锰清洗装置还包括： 载料盒， 设有一用于放置待清洗次锰的容纳空 间； 载料盒侧壁上设有 多个供水流通过的通水孔。 [0007]进一步的， 次锰清洗装置还包括： 推浪动力件， 设于清洗池一端； 支撑架， 用于放置 推浪动力件； 推浪板设于推浪动力件上。 [0008]进一步的， 次锰清洗装置还包括： 若干第一导流块， 设于载料盒底部； 调整件， 用于 改变第一 导流块在载料盒内的位置 。 [0009]进一步的， 第一 导流块两侧设有第一 导流面， 两端设有第二 导流面。 [0010]进一步的， 防浪墙包括： 第一挡板， 设于清洗池内； 第二挡板， 设于第一挡板一侧； 第二挡板上设有导 流部。 [0011]进一步的， 第一挡板和清洗池构成沿第二预设方向的滑动连接， 第二挡板和清洗 池构成沿第二预设方向的滑动连接 。 [0012]进一步的， 防浪墙包括： 第三挡板， 设于清洗池内； 第二导流块， 转动连接于第三挡 板顶部。说　明　书 1/7 页 3 CN 115090601 A 3