ICS 29.045
CCS H 80/84
团体 标准
T/CASAS 025—2023
8英寸碳化 硅衬底片基准标记及尺寸
8-inch silicon carbide wafer reference marking and dimensions
版本: V01.00
2023-06-19发布 2023-06-19实施
第三代半导体产业技术创新战略联盟 发布
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T/CASAS 025—2023
I 目 次
前言 ................................ ................................ ................................ ................................ ................................ .... III
引言 ................................ ................................ ................................ ................................ ................................ .... IV
1 范围 ................................ ................................ ................................ ................................ ................................ .. 1
2 规范性引用文件 ................................ ................................ ................................ ................................ .............. 1
3 术语和定义 ................................ ................................ ................................ ................................ ...................... 1
4 8英寸碳化硅基准标记说明 ................................ ................................ ................................ ............................ 1
5 规定 ................................ ................................ ................................ ................................ ................................ .. 1
切口相关参数 ................................ ................................ ................................ ................................ ........... 1
碳化硅标记 ................................ ................................ ................................ ................................ ............... 3
参考文献 ................................ ................................ ................................ ................................ .............................. 4
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III 前 言
本文件按照 GB/T 1.1 —2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规
定起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别 专利的责任。
本文件由北京第三代半导体产业技术创新战略联盟标准化委员会( CASAS) 制定发布,版权归 CASAS
所有,未经 CASAS许可不得随意复制;其他机构采用本文件的技术内容制定标准需经 CASAS允许;任何
单位或个人引用本文件的内容需指明本文件的标准号。
本文件主要起草单位: 山东大学、广州南砂晶圆半导体技术有限公司、 瀚天天成电子科技 (厦门)有
限公司、广东天域半导体股份有限公司 、 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司、 泰科天润半导体科技 (北
京)有限公司 、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟 。
本文件主要起草人: 崔潆心、杨祥龙、陈秀芳、徐现刚、来玲玲、于国建、 冯淦、丁雄杰、 潘国卫、
秋琪、徐瑞鹏 。
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IV 引 言
碳化硅(这里指 4H-SiC)材料作为重要的第三代宽禁带半导体材料,具有高临界击穿场强、高的热
导率、高的电子饱和漂移速率、优越的机械特性和物理、化学稳定性等特点,可用于制作高温大功率器
件。近年,随着单晶和外延薄膜生长技术的不断发展, SiC单极型器件 譬如肖特基二极管( SBD)及金属
氧化物场效应晶体管( MOSFET)已经商业化,在不同应用领域的需求急剧增加。 6英寸碳化硅 衬底片的
基准标记分为有直线定位和切口( notch)定位两种, 本文件的制定将填补 目前我国 8英寸碳化硅 衬底
片基准标记及尺寸 的空白。
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1 8英寸碳化硅衬底片基准标记 及尺寸
1 范围
本文件规定了 8英寸碳化 硅衬底片基准标记及尺寸。
本文件适用于碳化硅切割片、研磨片和抛光片。
注: 碳化硅衬底片主要用于制作电力电子 器件的外延衬底。
2 规范性引用文件
本文件没有规范性引用文件。
3 术语和定义
本文件没有需要界定的术语和定义 。
4 8英寸碳化硅 衬底片基准标记说明
8英寸碳化硅 衬底片的直径、厚度参数如表 1所示,直径为 200 mm±0.5 mm,厚度为 500 μm±25 μm。
表1 8英寸碳化硅 衬底片参数
参数 数值
直径 /mm 200
直径允许偏差 /mm ± 0.5
厚度/μm 500
厚度允许偏差 /μm ±25
5 规定
切口相关参数
8英寸碳化硅 衬底片的切口定位参数如表 2所示,切口深度为 1.00+0.25
0mm,切口角度为 90+5
-1°,切口
取向为 [1
100]± 5°。
表2 切口相关参数
参数 数值
深度/mm 1.00+0.25
0
角度/(°) 90+5
-1
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2 参数 数值
取向 [1
100]± 5°
图1为8英寸碳化硅 衬底片的切口位置和切口取向,图 2为切口形状,图 3为切口相关尺寸,其中标红
是切口的轮廓,介绍了切口的详细信息。
图1 8英寸碳化硅衬底片的切口及取向 ,硅面朝上
图2 切口形状
图3 切口相关尺寸(标红为切口)
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3
图4 切口实物图
图5 切口放大图
碳化硅标记
对硅面抛光 的碳化硅衬底片,衬底片碳面用与 OCR兼容的字体进行激光标记,类似于 SEMI M12 中
的定义和特征。 图6为激光标记位置,观察面为 碳面,缺口向下 ,激光标记 向右偏移。
图6 激光标记位置 ,碳面朝上
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4 参考文 献
[1] GB/T 12965 —2018 硅单晶切割片和研磨片
[2] GB/T 26067 —2010 硅片切口尺寸测试方法
[3] GB/T 30656 —2014 碳化硅单晶抛光片
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