(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221346915.4 (22)申请日 2022.05.31 (73)专利权人 上海芯谦集成电路有限公司 地址 201306 上海市浦东 新区中国(上海) 自由贸易试验区临港新片区江山路 2699弄12号厂房一层101 (72)发明人 杨波　张莉娟　唐雄　 (74)专利代理 机构 上海光华专利事务所(普通 合伙) 31219 专利代理师 卢炳琼 (51)Int.Cl. G01N 21/88(2006.01) G01N 21/01(2006.01) G01N 9/36(2006.01) (54)实用新型名称 硬抛光垫 检测装置 (57)摘要 本实用新型提供一种硬抛光垫检测装置， 包 括支架、 检测光源及电源开关， 所述支架上设置 有用于放置待检测的硬抛光垫的透明台面， 所述 检测光源平行设置于所述透明台面背离待检测 的硬抛光垫的一端， 所述电源开 关与所述检测光 源电连接。 本实用新型提供的检测装置结构简 单， 使用方便， 可 以快速有效地检测出硬抛光垫 整体密度是否均一和/或表面是否存在条纹色差 的缺陷， 可以极大提高检测效率和准确性。 同时， 相较于现有技术的密度计量测， 本装置对抛光垫 不具破坏性， 不需要报废检测 品， 可以极大降低 检测成本 。 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 CN 217688612 U 2022.10.28 CN 217688612 U 1.一种硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 包括： 支架、 检测光源及电源开关， 所述支架上 设置有用于放置待检测的硬抛光垫的透明台面， 所述检测光源平行设置于所述透明台面背 离待检测的硬抛光垫的一端， 所述电源开关与所述检测光源电连接 。 2.根据权利要求1所述的硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 所述检测光源包括多个LED 灯带， 多个LED灯带平行间隔设置 。 3.根据权利要求1所述的硬抛光垫检测装置， 其特 征在于， 所述支 架包括不锈钢支 架。 4.根据权利要求1所述的硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 所述透 明台面包括钢化玻璃 台面。 5.根据权利要求4所述的硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 所述钢化玻璃台面的厚度为 5mm。 6.根据权利要求1所述的硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 所述支架的前后两端具有高 度差， 使得 所述透明 台面为倾斜面。 7.根据权利要求6所述的硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 所述透 明台面的底端设置有 用于防止待检测的硬抛光垫滑落的长方块， 长方块的长度与透明台面底端同宽， 且长方块 突出于透明台面的表面。 8.根据权利要求1所述的硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 所述支架的底部设置有收纳 柜。 9.根据权利要求1 ‑8任一项所述的硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 所述支架上设置有 容纳所述检测 光源的箱体， 所述透明台面设置于所述箱体表面并将所述箱体密封， 连接所 述检测光源的电源线经 所述箱体上的穿线孔与位于箱体外 部的电源开关电连接 。 10.根据权利要求9所述的硬抛光垫检测装置， 其特征在于， 所述箱体上设置有可开合 的检修盖 板。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217688612 U 2硬抛光垫检测装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及集成电路技 术领域， 特别是 涉及一种硬抛光垫检测装置 。 背景技术 [0002]随着集成电路制造工艺进一步提升至纳米级， 化学机械平坦化(英文全称 Chemical Mechanical Planariz ation， 简称CMP)工艺成为现代集成电路制造 中不可或缺 的关键工艺步骤。 抛光垫是CMP 工艺中最为关键的耗材之一， 晶圆正面将直接接触抛光垫进 行平坦化抛光。 抛光垫的作用主要是帮助抛光液的均匀分布， 以及和晶圆表面产生机械力， 摩擦去除晶圆表面的多余材 料层， 从而达 到晶圆表面平坦 化的目的。 [0003]抛光垫有硬垫和软垫之分， 硬垫主要是由聚氨酯、 摩卡以及微球经聚合和高温硫 化而成。 考量抛光垫质量好坏的参数主要有硬度、 密度以及压缩率等。 将上述三种材料聚合 混料时， 如果混合不均， 将直接导致密度、 硬度不对， 硫化后可能在抛光垫表面产生缺陷性 条纹。 任何上述抛光垫参数的漂移或不达标都可能直接导致晶圆平坦化过程中产生晶圆表 面不均一和/或刮伤等问题， 直接影响晶圆生产的良率。 因此， 抛光垫制备过程中必须保证 抛光垫参数的稳定 。 [0004]现有检测硬抛光垫密度的方法都是采用密度计测量。 通过破坏性的剪取抛光垫上 一小块(通常是1～5厘米的正方形小块)， 放入密度计中进 行测量。 这种方法具有破坏性， 剪 掉的抛光垫将直接报废。 且这种方法只能测得抛光垫的局部密度值， 其检测结果不能代表 整个抛光垫密度均一。 [0005]抛光垫如果密度不均， 可能在抛光垫表面产生色泽不一的条纹。 现有方法中普遍 采用手电筒逐一照射以观察抛光垫表面是否有条纹。 这种手动检测方法不仅效率低下， 而 且难免存在漏检， 比如因工作人员疏忽导 致某些条纹缺陷没被观察到 。 实用新型内容 [0006]鉴于以上所述现有技术的缺点， 本实用新型的目的在于提供一种硬抛光垫检测装 置， 用于解决现有技术中检测抛光垫密度是否均一和是否存在条纹缺陷的方法只能对抛光 垫进行局部密度检测， 无法判断抛光垫密度是否均一， 且检测过程是破坏性的， 而依靠手电 筒逐一照射检测条纹缺陷的方法不仅检测效率低下， 且 存在漏检风险等问题。 [0007]为实现上述目的及其他相关目的， 本实用新型提供一种硬抛光垫检测装置， 包括 支架、 检测光源及电源开关， 所述支架上设置有用于放置待检测的硬抛光垫的透明台面， 所 述检测光源平行设置于所述透明台面背离待检测的硬抛光垫的一端， 所述电源开关与所述 检测光源电连接 。 [0008]可选地， 所述检测光源 包括多个LED灯带， 多个LED灯带平行间隔设置 。 [0009]可选地， 所述支 架包括不锈钢支 架。 [0010]可选地， 所述透明 台面包括钢化玻璃台面。 [0011]可选地， 所述钢化玻璃台面的厚度为5m m。说　明　书 1/5 页 3 CN 217688612 U 3