(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 20212342840 6.4 (22)申请日 2021.12.31 (73)专利权人 大连海川博创环保科技有限公司 地址 116024 辽宁省大连市 保税区海富路 9-1号2568室 (72)发明人 杨凤林　王燕　杨晨　 (74)专利代理 机构 大连智高专利事务所(特殊 普通合伙) 2123 5 专利代理师 盖小静 (51)Int.Cl. C12M 1/38(2006.01) C12M 1/36(2006.01) C12M 1/34(2006.01) C12M 1/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种快速富 集培养厌氧氨氧化菌的装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种快速富集培养厌氧 氨氧化菌的装置， 包括培养反应器、 均匀配水装 置、 恒温控制系统和pH控制系统， 所述恒温控制 系统包括 温度加热装置、 温控仪和内置在培养 反 应器中的温度探头， 所述温度探头、 温度加热装 置均与温控仪相连； 所述pH控制 系统包括pH控制 仪和内置在培养反应器中的pH探头； 在培养反应 器底部设置均匀配水装置， 实现过水断面上布水 均匀； 所述培养反应器中下部为污泥床反应区， 使厌氧氨氧化菌和反应基质充分接触； 所述污泥 床反应区上方设有三相分离器， 通过该三相分离 器将上浮的污泥截留下沉。 厌氧氨氧化菌对温 度、 pH较为敏感， 通过设置的恒温控制系统和pH 控制系统， 可使反应器温度、 pH维持在适宜范围， 保证系统稳定 。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 216712108 U 2022.06.10 CN 216712108 U 1.一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 包括培养反应器、 均匀配水装 置、 恒温控制系统和pH控制系统， 所述恒温控制系统包括温度加热装置、 温控仪和内置在培 养反应器中的温度探头， 所述 温度探头、 温度加热装置均与温控仪相连； 所述pH控制系统包 括pH控制仪和内置在培养反应器中的pH探头； 在培养反应器底部设置均匀配水装置， 实现 过水断面上布水均匀； 所述培养反应器中下部为污泥床反应区， 使厌氧氨氧化菌和反应基 质充分接触； 所述污泥床反应区上方设有三相分离器， 通过该三相分离器将上浮的污泥截 留下沉， 培养反应器中产生的氮气通过顶部出气口排出， 完成泥水分离的上清液经溢流堰 进入出水管排出。 2.根据权利要求1所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述pH控 制仪通过进药泵与pH调节剂药桶相连。 3.根据权利要求1所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述培养 反应器入口通过进水泵与营养液配药桶相连， 所述进 水泵与培养反应器之 间连接有调节管 路， 该调节管路与进药泵相连。 4.根据权利要求3所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述营养 液配药桶中的营养液采用人工合成污水， 成分包括氮源、 缓冲剂和微 量元素。 5.根据权利要求1所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述均匀 配水装置采用穿 孔花板， 且与其相连的进水 管配有流 量控制器。 6.根据权利要求1所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述温度 加热装置采用伴热 带， 均匀设置在培 养反应器外壁上， 并在伴热 带外层敷设保温棉。 7.根据权利要求1所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述培养 反应器在三个不同高度位置设有取样监测口。 8.根据权利要求1所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述三相 分离器外壁与培 养反应器内壁之间为 沉淀区， 所述 沉淀区上 方为气室。 9.根据权利要求1所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述培养 反应器的顶部出气口前设置单向阀。 10.根据权利要求1所述一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 其特征在于， 所述培 养反应器采用圆柱形升流式厌氧污泥床。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216712108 U 2一种快速富集培养厌氧氨氧化 菌的装置 技术领域 [0001]本实用新型涉及废水治理与微生物培养技术领域， 具体涉及一种快速富集培养厌 氧氨氧化菌的装置 。 背景技术 [0002]氨氮是衡量水体污染程度的重要指标， 也是我国水体污染物减排的控制指标之 一。 目前， 应用比较广泛的去除氨氮方式主要为硝化 ‑反硝化脱氮技术， 该种技术存脱氮效 率较低， 实际运行中需补充大量碳源和碱度药剂， 污泥产生量大， 给实际运营带来较大负 担。 [0003]厌氧氨氧化(Anaerob ic Ammonium  Oxidation， Anammox)是一种绿色高效的生物 脱氮技术。 厌氧氨氧化菌利用氨作为电子供体， 将亚硝酸盐还原成氮气， 整个反应过程无需 碳源， 无需供 氧。 有着节省能耗药耗， 脱氮负荷高、 占地 面积小等优点， 应用前 景广泛。 [0004]但是厌氧氨氧化菌生长较为缓慢、 倍增时间长， 同时对生存环境要求较高， 受基质 浓度、 溶解氧、 pH、 温度等因素影响较大， 同时当系统中游离氨浓度较高时， 对厌 氧氨氧化反 应有一定程度的抑制作用。 另外， 厌氧氨氧化菌在常规装置中启动周期长、 容易流失、 不易 富集， 以上综合问题限制了厌 氧氨氧化的工业应用。 因此， 研究探索一种快速富集培养的厌 氧氨氧化菌装置有着重要意 义。 实用新型内容 [0005]本实用新型的目的是提供一种快速富集培养厌氧氨氧化菌的装置， 该装置能够精 准监测控制反应条件、 防止污泥流 失， 提升了厌氧氨氧化菌的富集速度， 同时具备工程可操 作性。 [0006]为实现上述目的， 本申请提出一种快速富集培养厌氧氨氧化菌 的装置， 包括培养 反应器、 均匀配水装置、 恒温控制系统和pH控制系统， 所述恒温控制系统包括温度加热装 置、 温控仪和内置在培养 反应器中的温度探头， 所述温度探头、 温度加热装置均与温控仪相 连； 所述pH控制系统包括pH控制仪和内置在培养反应器中的pH探头； 在培养反应器底部设 置均匀配水装置， 实现过水断面上布水均匀； 所述培养 反应器中下部为污泥床反应区， 使厌 氧氨氧化菌和反应基质充分接触； 所述污泥床反应区上方设有三相分离器， 通过该三相分 离器将上浮的污泥截留下沉， 培养反应器中产生的氮气通过顶部出气口排出， 完成泥水分 离的上清液 经溢流堰进入出 水管排出。 [0007]进一步的， 所述pH控制仪通过进药泵与pH调节剂药桶相连。 [0008]进一步的， 所述培养反应器入口通过进水泵与营养液配药桶相 连， 所述进水泵与 培养反应器之间连接有调节管路， 该调节管路与进药泵相连。 [0009]进一步的， 所述营养液配药桶中的营养液采用人工合成污水， 成分包括氮源、 缓冲 剂和微量元素。 所述氮源可以采用(NH4)2SO4、 NaNO2， 所述缓冲剂主要采用KHCO3、 KH2PO4， 所 述微量元素主要采用EDTA、 F eSO4、 CaCl2、 MgSO4、 NaCl、 KCl 等。说　明　书 1/3 页 3 CN 216712108 U 3